采用镍基高温合金钢制作
炉体上安装有铝制散热器和风扇,对法兰进行风冷却
最高工作温度:1100℃
温度控制:可设置30段升降温程序,控温精度为:+/-1℃
18MPa≤800°C
13MPa≤900°C
8MPa≤1000°C
3MPa≤1100°C
反应釜的法兰上安装有一精密压力传感器,可以实时测量放映反应釜内部的气压
反应釜内部气压会在仪器面板上的压力仪表上显示(单位为MPa),并且可在仪表上设置最高压力报警点
仪器上安装有一高压电磁阀,当反应釜内气压达到报警点时,电磁阀会自动打开泄气
详细介绍
RC-Ni-300是一款300ml的高温高压反应釜,采用镍基高温合金钢制作,其具极高的蠕变强度和抗氧化性。反应釜可承受最高温度为1100℃(此时反应釜内可承受的最高压力为3MPa).此款设备适合用水浴法制备材料,也特别适合在高压氧环境下对样品进行热处理。
技术参数
特别注意
| 注意:为了实验安全,高温高压反应釜必须放入安全防爆箱,实验时人员不可面对着法兰顶部
|
反应釜材料 | |
反应釜容积,尺寸 | 300ml,70mmODx35mmIDx326mmh |
工作温度,温度控制 | |
工作压力 | |
压力测试及控制 | |
耗材 |
无氧铜密封圈63mmO.D |
质保期 | 一年质保期,终身维护 |
- 产品分类
- 品牌分类
- 光电晶体基片
- 闪烁晶体基片
- 氟氯化物晶体基片
- 激光晶体基片
- 无衍射基板
- 玻璃基片
- 陶瓷基片
- 石墨基片
- 基片加工及处理相关设备
- 科晶新品--世界领先
- 混合箱式/管式炉
- 管式炉系列
- 箱式炉系列
- 氢气炉系列
- 高温高压炉系列
- 电池研究全套设备及耗材
- 薄膜制备全套设备及耗材
- 晶体生长炉系列
- 混气、高真空设备
- 球磨机、压片机系列
- 提拉涂膜机、旋转涂膜机
- 金刚石线切割机
- 研磨抛光机
- 干燥箱、手套箱系列
- 蓝宝石制备全套解决方案
- 等离子镀膜设备
- 样品的标记清洗干燥贮存
- 磨抛辅助设备及备件
- 切割辅助设备及备件
- 切磨抛耗材
- 取样机
- 镶嵌机及各种镶嵌料
- 加热平台系列
- 材料实验相关配件
- 高温炉及相关配件系列
- 晶体产品
- A-Z系列晶体列表
- A-Z系列溅射靶材
- A-Z金属单晶,多晶,箔片
- A-Z系列蒸发材料
- A-Z系列金属丝
- A-Z系列粉料
- 包装盒,镊子,储藏盒,吸笔
- 磁铁电薄膜基片
- 高定向热电材料
- 半导体晶体基片
- 超导薄膜单晶基片
- 功能外延薄膜系列
- 超导薄膜双晶基片
- III-V族晶体基片
- II-VI族晶体基片
-
仪企号合肥科晶材料技术有限公司
-
友情链接