产品简介
QEX10量子转换效率量测系统 (Quantum Efficiency Measurement System)
产品特点: Options:
• 可量测波长范围:300~1100nm,解析度5nm(可调整) • 光谱范围可扩充至1400nm或1700nm
• 电脑程式自动控制光栅及滤片组切换 • 反射及及IQE良策组件
• Chopper频率:4~100Hz,可电脑控制 • Chopper频率可选1.3~50Hz组件或增加DC模式选择,
• 含白光偏光源,光源强度可达0~5 suns 利于量测DSSC等材料
• 含偏自动电偏压功能±3.0V • 双或三白光偏光/LED偏光
• 含标准校正用探测器(NIST traceable) • Beam up选择
• 内建AM1.5G光谱(或可自行导入AM1.5G光谱)计算Js • 搭配组件可提供温度控制、真空量测、
• 量测准确度:±1% @ 360~1100nm,±2% @ 300~360nm & 1000~1100nm X-Y mapping或各种客制化工作平台选择
• 量测重复性:±0.3% @ 400~1100nm,±0.6% @ 300~400nm & 1000~1100nm
• 可应用于c-si, mc-si, CIGS, DSSC, Orgnnic, III-V Dual-junctions
Triple-junctions等cell.
标准太阳能电池(Reference Solar Cell)
产品特点:
• NREL校正并附校正报告及光谱响应资料
• 设计用来设定太阳能电池量测条件 (1SUN)
• 多尺寸矽晶电池可供选择
• 含温度感测器
• 4线式量测接线量測接線
• BK7玻璃外窗含抗反射涂布
- 产品分类
- 品牌分类
- 光谱仪/拉曼光谱仪
- 科学级CCD 探测器
- 光学光电与太阳能光伏
- 太阳能相关
- IC封装与测试
- 晶圆制造
- 激光器/功率计
- 等离子刻蚀设备(PECVD)/反应式离子刻蚀(RIE)/Remover
- 镀膜设备
- 光刻胶耗材
- (美国)美国PV measurements
- (美国)美国CrystaLaser
- (美国)美国科洛玛
- (美国)普林斯顿
- (美国)美国Semrock
- (美国)美国Photometrics
- (美国)美国BNC
- (美国)SONIX
- (美国)美国RTI
- (德国)德国YXLON
- (韩国)韩国NOST
- (美国)美国Nisene
- (美国)维易科
- (美国)美国Royce
- (美国)美国Ocean Insight
- (美国)丹顿真空
- (美国)相干
- (美国)美国Micro Control Comp
- (法国)法国普发真空
- (美国)美国Mechanical Devices
- (美国)赛默飞世尔
- (美国)美国WEB Technology
- (日本)日本Nippon Kayaku
- (美国)inTEST
- (美国)美国HILEVEL
- (美国)美国Akrometrix
- (德国)德国Microtronic
- (德国)德国布鲁克
- (以色列)以色列Camtek
- (美国)美国Frontier Semiconductor
- (日本)奥林巴斯
- (美国)美国Jelight
- (英国)英国AML
- (美国)美国DJ MicroLaminates
- (美国)美国OAI
- (美国)美国IMP
- (美国)美国Chemcut
- (荷兰)荷兰Trymax
- (韩国)韩国Suhwoo
- (美国)美国Filmetrics
- (美国)美国Heller INDUSTRIES
- (美国)美国Qimaging
- (美国)美国Mechanical Devices
- (荷兰)荷兰Lambert
- (美国)美国安维谱
- (美国)美国ONDAX
- (德国)德国PVA TePla
- (德国)德国LTB Lasertechnik Berlin
- (美国)美国MicroChem
- (美国)美国EOS
- (美国)美国ABET Technologies
- (美国)美国IPS
- (香港)香港Teltec
- (加拿大)加拿大gentec-eo
- (美国)美国DJ Devcorp
- (英国)英国LaserQuantum
- (丹麦)丹麦NIL TECHNOLOGY
-
仪企号香港电子器材有限公司
-
友情链接