晶圆制造

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#13; MICROCHEM SU-8 负性化学放大胶 高深宽比，亚微米分辨率,侧壁陡直 适合I-line，宽光谱,电子束，X射线曝光 热稳定性>300C

MPR为负性光刻胶，具有与SU-8光刻胶相同的侧壁效果与深宽比，易于去除。一般常用于MEMS,电铸，DRIE等。

#13; LOR 双层Lift-off专用光刻胶。 高分辨，可用于

#13; SUEX 干膜光刻胶(TDFS) 厚膜、适用于MEMS制作与封装 选择干膜的优势 使用方便，只需几分中便可压膜完成开始使用 无需去边 卓越的

VA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领xian地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清

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unichMetrologyVPD系统及模组　MunichMetrologyGmbH,是PVATePla的全资子公司,拥有VPD，气相分解设备超过二十年的VPD经验，无论在设备和应用方面都是前沿供应商

、高速、高分辨率；2、可调试；3、耐干程度优于PMMA。

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