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德国Fraunhofer IPMS研究所新增PHI硬X射线光电子能谱仪

发布:爱发科费恩斯(南京)仪器有限公司
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Insight into Nano Depth - New Fraunhofer IPMS X-ray 

photoelectron spectrometer enables tiny particle analysis

我们正处于信息技术高速发展的时代,其中芯片可谓是人工智能的神经细胞,通过内部数十亿个微小的组件将重要的信息和信号传输给智能设备。现今智能设备内置的半导体芯片,体积越来越小,功能却越来越强大,效率更是越来越高。

由于纳米尺度的表面结构已经无法通过肉眼识别,为了在纳米深度范围内分析硅片表面特性,所以德国弗劳恩霍夫光子微系统研究所(FraunhoferIPMS)从PHI(德国)公司(Physical Electronics GmbH)采购了一台高性能的硬X射线光电子能谱仪(XPS)。

Fraunhofer IPMS研究所的首席研究员Benjamin Uhlig博士说:“PHI公司新推出的Quantes硬X射线光电子能谱仪可以检测纳米深度范围内的表面特征、薄膜结构和表面污染物,而不会造成任何损害。为了准确分析芯片表面的化学成分,进行纳米深度区域的检测是非常重要的。XPS的这种创新功能使我们能够更好地理解半导体芯片的制造过程,并在未来优化芯片性能上起到关键的作用。”

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PHI公司(Physical Electronics GmbH)的

硬X射线光电子能谱仪(XPS)

这种新型光电子能谱仪的另一个优点是通用性强。除了使用Al-ka X射线源(1486 eV)进行常规的XPS测量外,我们现在还可以进行往更深层扩展的分析实验。该系统配置了Cr-ka X射线源(5414 eV),可以对Si芯片提供约22纳米的分析深度,这是常规基于Al-ka X射线的XPS探测深度(约7纳米)的三倍。

Uhlig博士说:“通过硬X射线光电子能谱,我们可以很好地分析过渡金属。该系统还可对样品表面进行清洁,也可进行深度剖面分析。此外,还可以原位进行从-120°C到300°C的样品变温XPS测试分析以及电位接触样品的实验。”

该系统的二次电子影像(SXI)可以对样品上的微小结构进行非常极ng确的定位 。Fraunhofer IPMS研究所的硬X射线XPS系统可以用于进行广泛的综合分析。与此同时,Fraunhofer IPMS研究所为世界上各大企业在产品研发中提供了的各种的合作机会。

Fraunhofer IPMS研究所投资了硬X射线光电子能谱仪,作为德国微电子研究项目的一部分。这项投资由联邦教育和研究部资助,旨在促进德国成为科学和技术ZX。

背景信息

弗劳恩霍夫光子微系统研究所(Fraunhofer IPMS)位于德国德累斯顿市,为工业制造和自动化以及提高生活质量的YL技术提供面向未来的解决方案。该研究所拥有超过350名的科学家和工程师,他们分别在光学传感器和执行器、集成电路、无线数据通信和微电子领域展现出了Z高水平。

PHI公司(Physical Electronics)前身为美国PE(Perkin Elmer)公司专业表面分析仪器部门,于2003年被日本真空ULVAC收购,成立ULVAC-PHI。ULVAC-PHI作为Z专业的表面分析仪器制造商,拥有60余年的表面分析设备研发和生产历史,专注于研发生产表面分析仪器,其产品包括光电子能谱仪(XPS),俄歇电子能谱仪(AES),飞行时间二次离子质谱仪(ToF-SIMS)和动态二次离子质谱仪(D-SIMS)。

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https://www.ulvac-phi.com/en/company/


2020-04-17
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