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集结技术,突破核心 | 赛默飞助力集成电路行业发展

发布:赛默飞世尔科技(中国)有限公司
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集结技术,突破核心 | 赛默飞助力集成电路行业发展

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7月28日,赛默飞世尔科技联合上海市计量测试技术研究院电子化学品平台在上海共同举办“集结技术,突破核心——2020年集成电路行业发展与分析技术研讨会”圆满结束。业内一线专业大咖及行业技术精英100余人共同探讨集成电路产业发展的挑战与机遇,一览前沿创新技术,探索突破核心方案。


集结技术 一览重磅大咖的行业深度

 

 

集成电路是信息产业基础,是构筑大国竞争力的核心产品。如何在多变市场环境下逆势上扬,突破关键核心技术,维护产业链安全,确保供应链完整,已成为国家在产业布局方面的重要战略考量。

 

本次研讨会有幸邀请到上海市计量测试技术研究院电子化学品平台的资shen专家,以及来自上海,峨眉和青海的半导体检测专家,为在场的与会者分享宝贵经验。

五位专家提及的不论是实验室的检测操作需求,还是集成电路的检测发展趋势,对分析仪器有稳定可靠,智能灵活,适应性强,信息量大等需求。对此,赛默飞可根据客户需求,提供完善解决方案。

 

突破核心  赛默飞集成上下游的分析检测方案


差异化方案

 

赛默飞完善的产品组合满足产业链从无机到有机ppt级分析要求


Dionex ICS-6000 HPIC高压离子色谱系统:完全满足半导体中ppt 级超纯水、ppb 及ppm 级高纯试剂中痕量阴阳离子杂质以及% 级混酸含量测定等分析对仪器耐用性和快速分析性能要求。


iCAP™ TQ ICP-MS: 可实现低至1ppt无机杂质元素分析。标配4路碰撞反应气体,彻底消除多原子离子干扰;标配有机加氧装置,可直接分析半导体行业的有机试剂。

GC1300气相色谱,ISQ7000单四极杆气质联用仪:用于半导体中超洁净室中超痕量VOCs的监测、电子特气痕量杂质分析等应用需求,满足灵敏度、稳定性及可靠性的要求。


前瞻性技术

借助Element 2 HR-ICP-MS和Element GD Plus GD-MS高分辨能力(最gao分辨率可达10000),可区分质量数小于0.01 amu的质谱干扰,真正实现无干扰分析,并减少复杂的样品制备和方法开发过程。

 

Element XR HR-ICP-MS高分辨电感耦合等离子体质谱仪:高纯试剂、高纯材料、高纯气体中痕量元素准确定量。

卓yue兼容性

赛默飞变色龙软件可以兼容市面上几乎绝大多数的色谱分析类产品,从而使用户更容易上手不同的设备,如赛默飞变色龙软件可以直接控制热脱附产品;除此之外,赛默飞的设备也可以与在线集成商合作,从而实现在线IC、在线ICPMS等在线实时监控的成熟方案。

Element GD Plus GD-MS 辉光放电质谱仪:高纯固体样品直接分析,最da化减少样品处理步骤,降低沾污风险。

卓yue兼容性

赛默飞变色龙软件可以兼容市面上几乎绝大多数的色谱分析类产品,从而使用户更容易上手不同的设备,如赛默飞变色龙软件可以直接控制热脱附产品;除此之外,赛默飞的设备也可以与在线集成商合作,从而实现在线IC、在线ICPMS等在线实时监控的成熟方案。


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2020-07-29
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