详细介绍
1、 系统概述
1.1 智能嵌锁,系统盖板具有智能嵌锁装置,确保操作安全;
1.2 防腐装置;
★1.3设有保护气体装置:旋涂过程中对旋转马达进行气流保护;
1.4 通信接口,蓝牙连接
2、处理腔体
2.1 处理腔体内径不小于9.5英寸 (241毫米);
2.2 Wafer芯片尺寸至少满足10-150mm直径的材料,方片125x125mm,无需更换片托;
2.3 腔体具有易清洁的NPP天然聚丙烯材质;
3、 旋转马达
3.1 转动速度至少满足0-12,000rpm,
3.2 旋涂加速度不小于12,000rpm/sec;
3.3 马达旋涂转速稳定性能误差不超过±1%;
4、控制系统
★4.1工艺时间设定范围至少满足1-5999.9sec/step ,精度不超过0.1s;
★4.2 配有高精度PLC可编程的控制器,设置点精度小于0.006%;
4.3 可存储不少于20个程序段,每个程序段可设置不少于51个不同步骤的速度状态;
★4.4 分辨率要小于0.5RPM,重复性误差要小于±0.5RPM,具有国际NIST标准认证,并且无需再校准;
5、配套泵浦
5.1 配套真空泵系统:无油型 220~240伏交流,50/60赫兹;
5.2 真空吸附范围25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可调节,抽速不小于4.5 SCFM (0.11 立方米/分钟) ;
6、系统附件
6.1 原装进口水平测试仪;
6.2 两袋密封圈;
6.3 配有两套可更换的废液接收单元;
6.4 UD自动滴胶装置:UD-3带倒吸装置的多喷嘴可编程针筒;
6.5 EBR(Edge Bead Remover):晶圆去边,机械装置;
解决方案
- 产品分类
- 品牌分类
- 匀胶机,旋涂仪
- 等离子清洗机
- 光刻机,紫外曝光机
- 压片机,热压机
- 紫外臭氧清洗机
- 等离子去胶机
- 快速退火炉
- 加热台,烤胶机
- 显影腐蚀系统
- 平板硫化机
- 程序剪切仪
- 薄膜测厚仪
- 探针台
- 紫外固化箱
- 反应离子刻蚀机
- 原子层沉积系统
- 等离子处理系统
- 折射率匹配液
- 显微镜浸油
- 光学凝胶
- 封固胶
- 硼酸片
- 浸入液
- 激光液
- 纳米压印机
- 引线键合机
- 光谱仪
- 分光光度计
- 烤胶机,热板
- 刮涂机
- 混合搅拦机
- 振实密度仪
- 光刻胶
- 纳米压印胶
- 碳纸
- 清洁剂
- 电镜耗材
- 实验室耗材
- 点胶机
- 太阳光模拟器
- 临界点干燥仪
- 显微镜检测系统
- 搅拌脱泡机
- 超声喷涂机
- 导电胶
- (美国)美国MicroXact
- (瑞士)SOLARONIX
- (希腊)希腊ThetaMetrisis
- (美国)美国Cargille
- (荷兰)荷兰Jipelec
- (美国)美国Plasma Preen
- (美国)美国Plasma Etch
- (德国)德国APT Automation
- (美国)美国托尔
- (美国)Trion
- (加拿大)Plasmionique
- (美国)美国SSI
- (美国)UVOCS
- (英国)Ossila
- (美国)美国Dymax
- (美国)美国AXIC
- (美国)卡吉尔
- (丹麦)丹麦NIL
- (法国)法国JFP
- (美国)美国Futurrex
- (德国)Micro Resist
- (美国)美国加德纳
- (美国)美国高泰检测
- (德国)德国SPS-保罗
- (美国)美国MicroChem
- (日本)日本东丽
- (美国)美国劳瑞尔
- (美国)美国Alconox
- (美国)美国Harrick
- (英国)Agar Scientific
- (美国)美国CARVER
- (英国)英国Quorum
- (美国)美国PIE
- (美国)美国泰德派勒
- (美国)美国恩科优
- (德国)德国维世科
- (美国)美国ANRIC
- (日本)日本三永
- (美国)美国novascan
- (美国)美国Tousimis
- (美国)美国Dake
- (其它)爱尔兰Ash
- (英国)英国EMS
- (美国)Angstrom Advanced In
- (美国)美国Uvitron
- (美国)美国Micromanipulator
- (瑞士)瑞士KINEMATICA
- (日本)日本Kakuhunter
- (美国)美国Anatech
- (美国)美国Sonaer
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