详细介绍
德国海德堡 激光直写光刻机DWL 66+
科研用激光直写系统
具有多种直写模块，实现不同精度直写需求
能于结构上进行灰度曝光
DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器，适用于小批量掩模板制作和直写需求。该系统的功能和灵活性使其成为Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor以及所有其他需要微结构应用的刻研工具。DWL 66+的客户群包括全 球200多所顶 尖大学和研究机构，许多系统功能是与这些机构合作开发，及先进技术不断改进以增加高分办率：DWL 66+的最小结构尺寸为300 nm，提供了极高的分辨率，优于或等于研发领域中最 强大的光学光刻系统。
基本的DWL 66+包含创造和分析微结构所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直写在任何涂有光刻胶的平坦材料上，多样化选择可提高灵活性，使系统适用于更多应用领域。
产品优势
DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- （荷兰）荷兰TSST
- （英国）英国Durham Magneto Optic
- （德国）德国Finetech
- （日本）日本AND
- （日本）日本Tohuko
- （瑞典）瑞典Mycronic
- （日本）日本理音
- （美国）美国KLA
- （美国）美国D&S
- （瑞士）瑞士Swisslitho AG
- （德国）德国MBE-Komponenten
- （美国）美国RTI
- （英国）英国牛津真空
- （日本）日本电子
- （德国）德国UniTemp
- （美国）美国Nanovea
- （美国）美国德龙
- （日本）日本尼康
- （美国）湖岸LakeShore
- （美国）美国SONIX
- （德国）德国YXLON
- （美国）美国OAI
- （美国）美国阿兹特克
- （美国）美国Royce
- （美国）美国OGP
- （美国）美国相干
- （深圳）杰普特
- （美国）美国Filmetrics
- （美国）美国Thorlabs
- （美国）美国nanoArch
- （英国）英国Quorum
- （美国）美国Anasazi
- （美国）美国Montana Instruments
- （芬兰）芬兰Picosun
- （土耳其）土耳其ADLEMA
- （苏州）苏州纽迈
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- （德国）德国YXLON
- （德国）德国neaspec
- （瑞典）瑞典NanOsc
- （德国）德国Sentech
- （德国）德国Attocube Systems
- （东莞）庆达VIPUV
- （英国）英国HHV
- （德国）德国耐驰
- （英国）NanoMagnetics
- （法国）法国Plassys
- （美国）美国Associated Research
- （日本）日立
- （英国）牛津仪器
- （德国）德国克吕士
- （美国）美国SCIEX
- （美国）美国Denton Vacuum
- （日本）日本SEN
- （美国）美国海马
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- （美国）美国UVOCS
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