nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch P140是科研级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArch P140/S140系统性能 | ||
性能参数 | nano Arch P140产品规格 | nano Arch S140产品规格 |
光源 | UV-LED(405nm) | UV-LED(405nm) |
打印材料 | 光敏树脂 | 光敏树脂 |
光学精度 | 10μm | 10μm |
XY打印精度 | 10-40μm | 10-40μm |
打印层厚 | 10-40μm | 10-40μm |
打印样品尺寸 | 19.2mm(L)x10.8mm(W)x45mm(H) | 模式1：19.2mm(L)x10.8mm(W)x45mm(H) |
模式2：94mm(L)x52mm(W)x45mm(H) | ||
模式3：94mm(L)x52mm(W)x45mm(H) | ||
打印件格式 | STL | STL |
系统外形尺寸 | 1000(L)x700(W)x1600(H)mm³ | 1000(L)x700(W)x1600(H)mm³ |
机器外形尺寸 | 600(L)x580(W)x750(H)mm³ | 600(L)x580(W)x750(H)mm³ |
重量 | 300kg | 300kg |
电气要求 | 200-240V,AC,50/60HZ,3KW | 200-240V,AC,50/60HZ,3KW |
注：样品高度典型2mm,最 高10mm | ||
打印材料：
。标准型：硬性光敏树脂
。个性化：405nm固化波段的光敏树脂材料，支持透明树脂，柔性树脂，硬性树脂，纳米颗粒掺杂复合树脂，韧性树脂，生物医疗树脂，需适配不同的工艺和模型（不保证打印性能）。
。韧性树脂（T-160-50 系列）
。生物医疗树脂（B-160-50 系列）
系统特性：
。高精度
。低层厚
。光学监控系统
。自动对焦功能
。高打印质量
。优良的光源稳定性
。完善的配套设备及组件
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