光刻机/3D打印机/电子束直写仪

国 OAI 光刻机:Model  200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model  2000 全自动边缘

nanoArch M160 科研级3D打印系统，科研级3D打印系统，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印，适...

日本JEOL 大功率电子枪/电源EBG-300UA,JEGB-1000UB,JEBG-3000UB，是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速...

具有良好的稳定性，平均正常运行时间超过93%

生产效率提高，曝光速度更快，减少辅助操作时间； 画面质量更优质，更小的成像单位； 6种曝光水平和干板曝光的平台可扩展性； FPS5100/5300/5500可升级。

紧凑、轻型、高度可靠的紫外线光源型号名称波长 (nm)最大脉冲频率 (Hz)最大脉冲能量 (mJ)最大功率 (W)ExciStar XS 20015720020.2ExciStar XS 500500

OAI 30型UV光源OAI 30型UV光源（显示有可选支架）由独立光源，恒定强度控制器和快门定时器组成。30型UV光源是高效的，可用于各种应用。光由椭圆形反射器收集并聚焦在积分/聚光透镜阵列上，以

外光源OAI UV光源是大面积准直光源。 该器件的输出功率高达10KW。 利用准直镜，UV光源重型是一种高效的紫外光源，适用于各种大规模应用。UV Light Source GrandeThe OAI

012SM型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动FOUP装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加

种型号的2000型曝光系统包括UV光源，强度控制电源和机器人衬底处理子系统。 UV光源提供发散半角在AF配置中，2000型泛光曝光系统用于增强和/或增强生产和研发环境中的光刻过程。应用包括光刻胶稳定和

800FSA型掩模对准器可以配置多种OAI光源，功率高达2KW。

AI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具

•全自动 •侧面对齐 •可选：底部对齐 UV到NUV •集群工具集成 •自定义软件

00型光学正面和背面光刻机系统OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供极其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非

I线步进式光刻机 / I-line stepper，型号：Nikon NSR-I12技术指标及功能广泛应用于生产线，是6英寸，8英寸等主力I线生产机台，适用于I线光刻胶的曝光，操作简单，曝光精度准，