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离子研磨系统ArBlade5000价格：面议- 品牌： 日立
- 型号：ArBlade5000
- 产地：日本
日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量，并制备广域横截面样品。 离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材
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离子研磨装置IM4000价格：面议- 品牌： 日立
- 型号：IM4000
- 产地：日本
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Mil领 System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！ 日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI
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磁控溅射器MC1000价格：面议- 品牌： 日立
- 型号：MC1000
- 产地：日本
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。 日立高新磁
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