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刻蚀机

 
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德国SENTECH ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机
  • 品牌: 德国Sentech
  • 型号: ICP/ RIE
  • 产地:德国
  • 仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。

英国SPTS 蒸发HF刻蚀 SPTS UEtch
  • 品牌: 英国SPTS
  • 型号:SPTS UEtch
  • 产地:英国
  • 通过无水乙醇的催化作用,HF气体与SiO2反应生成可挥发的产物SiF4和气态H2O,并通过真空排风抽走。整个反应过程不生成液态水,避免了液体对悬空微纳结构的粘连,从而可以成功释放悬空的微纳米结构。主要...

MemsStar  XeF2刻蚀机
MemsStar XeF2刻蚀机
价格:面议
  • 品牌: MemsStar
  • 型号:XeF2
  • 产地:德国
德国SENTECH电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统 SI500
  • 品牌: 德国Sentech
  • 型号:SI500
  • 产地:德国
  • Simple high rate etching 简单高速率刻蚀 MEMS制造工艺中,Si材料光滑侧壁的高速高选择比刻蚀,可以很容易的通过室温或低温工艺实现。

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