SG系列
原位芯片生产的TEM氮化硅膜窗格由先进的微电子工艺打造，可用于微纳米样品高分辨电镜观测。此款窗格为3mm外径的八边形，适用于所有TEM样品杆，为适用于多种实验条件，原位芯片为科研人员提供了单窗格，多窗格及微孔窗格三种标准产品。氮化硅膜采用
低应力技术（<250MPa），化硅膜薄透且不易破损，非常适合于前沿的生物、材料、物理、
化学等方面的研究。
产品应用
•搭载TEM、SEM、AFM、拉曼和XRD等设备的样品。超薄的氮化硅膜可以为您提供稳
定的样品观测平台；
•可适用于需要加热处理的样品观测，本产品可耐受约1000℃高温；
•可适用于需要化学处理的样品观测，可以耐受盐酸、硫酸和强碱的腐蚀；
•可用于生物样品观测，氮化硅薄膜具有良好的生物亲和性；
•可适用于需要避C/Cu等元素的样品观测，载网表面无碳元素薄膜；
•可用于TEM、SEM、AFM、拉曼、XRD和同步辐射等设备的单一以及联合交叉检测。
技术参数
SG同步辐射氮化硅薄膜窗口 | |||
外框项目 | 参数 | 外框 | 参数 |
材料 | N/P 型硅片 | 电阻率 | 1~10Q*cm |
氮化硅项目 | 参数 | 氮化硅项目 | 参数 |
材料 | LPCVD 氮化硅 | 应力 | <250MPa |
介电常数 | 6-7 | 介电强度 | 10 (106V/cm） |
电阻率 | 1016Ω*cm | 粗糙度（Ra) | 0.28±5% nm |
杨氏模量 | 270Gpa | 粗糙度(Rms) | 0.40±5% nm |
产品型号
产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 |
SG010Z | 10nm | 0.10×0.10mm |
SG015Z | 10nm | 0.15×0.15mm |
SG025Z | 10nm | 0.25×0.25mm |
SG050Z | 10nm | 0.50×0.50mm |
SG025 | 15nm | 0.25x0.25mm |
SG050A | 15nm | 0.5x0.5mm |
SG100A | 15nm | 1x1mm |
SG025B | 30nm | 0.25x0.25mm |
SG050B | 30nm | 0.5x0.5mm |
SG100B | 30nm | 1x1mm |
SG025C | 50nm | 0.25x0.25mm |
SG050C | 50nm | 0.5x0.5mm |
SG100C | 50nm | 1x1mm |
SG050D | 100nm | 0.5x0.5mm |
SG025E | 200nm | 0.25x0.25mm |
SG050E | 200nm | 0.5x0.5mm |
每盒包含10枚芯片 | ||
