详细介绍
ME/NE系列
原位芯片生产的微孔/纳米孔氮化硅薄膜窗口均在百级洁净环境中制备，在窗口薄膜上利用
MEMS工艺制备不同孔径大小的阵列，方便研究人员用于特殊样品观测。目前苏州原位芯片已推出以下标准微孔/纳米孔氮化硅薄膜窗口，如客户有其他微孔/纳米孔薄膜窗口需求，原位芯片可提供开发定制。
| 微孔氮化硅薄膜窗口 | |||||
| 产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | 孔径 | 阵列 | 孔心间距 |
| ME050B | 30nm | 0.50×0.50mm | 2.8㎛ | 45×45 | 10㎛ |
| ME050C | 50nm | 0.50×0.50mm | 2.0㎛ | 45×45 | 10㎛ |
| ME050C10 | 50nm | 0.50×0.50mm | 10㎛ | 45×45 | 10㎛ |
| ME050E05 | 200nm | 0.50×0.50mm | 5㎛ | 45×45 | 10㎛ |
| 每盒包含10枚芯片 | |||||
主要用途
TEM SEM 微孔氮化硅薄膜窗口 电镜设备观测窗口
