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PC 3003 VARIO系统具有的极限真空，因此非常适合高沸点溶剂的蒸发，即使在很低的温度下亦是如此。该系统将优异的性能、紧凑的结构和超低的噪音结合在一起。

MV 10C NT +EK 增配了带出气口废气冷凝器 （EK），有效的溶剂回收系统使其成为更加出色和更加环境友好的系统。进气口的收集瓶为玻璃材质（外覆防护膜）防止颗粒和液滴进入泵内，可作为可选附件。

化学真空系统 PC 620 NT采用一个真空泵同时进行两个独立的真空应用的操作，是既经济又节省空间的好选择。每个真空端口安装一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行真空控制。

化学真空系统 PC 611 NT经证实可用于许多蒸发过程的真空获取或控制。该系统使一个泵同时进行两个真空操作成为可能。它的基础泵为MD 4C NT三级化学隔膜泵，可满足大部分高沸点溶剂的真空要求。

化学真空系统 MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK使用一个真空泵即可同时实现两种过程控制。可与旋转蒸发仪、真空浓缩仪和真空烘箱等配合使用。每个真空连接口配备一个手动控制阀来调节进气口的有效流...

VARIO DUO真空系统是由两个独立的VARIO真空系统组成，在进气口端并行连接，并通过一个CVC 3000控制器同时进行操控。真空条件可精确控制。两个独立真空泵的转速可以根据真空需求精确控制。

VARIO?泵及其真空系统通过调节隔膜泵的马达转速实现极ng准的真空控制。按一个键后，即可实现全自动的蒸发控制。该系列的基础泵是MD 4C NT VARIO三级化学隔膜泵，满足大部分高沸点溶剂的高真空...

PC 600系列化学真空系统经证实可用于许多蒸发过程的真空获取或控制。其基础泵为MD 4C NT三级化学隔膜泵，可满足大部分高沸点溶剂的真空要求。典型的应用包括连接旋转蒸发仪或真空干燥箱。

化学真空系统 PC 201 NT广泛应用于化学、生物和制药实验室的排气、蒸发或者气体抽取等过程。主要用于和旋转蒸发仪、真空浓缩仪或真空干燥箱等连用，非常适用于高沸点溶剂。

PC 3001 VARIOpro EK Peltronic这款VARIO?化学真空系统通过精确且持续地调节隔膜泵的马达转速来实现真空控制。因需调节的马达转速控制大大延长了隔膜的寿命。其主泵为MD 1C...

CVC 3000 detect是一台即插即用的两点法真空控制器。它包含带内置陶瓷真空传感器的CVC 3000真空控制器，集成了单向阀的放气阀及耐化学腐蚀的电磁阀，结构非常紧凑，整个控制器安装方便。

CVC 3000 detect是一台即插即用的两点法真空控制器，既有桌面式型号，也有支架式可安装于实验室支架上。它包含带内置陶瓷真空传感器的CVC 3000真空控制器，集成了单向阀的放气阀及耐化学腐蚀...

RC 6化学杂交泵是将一个双级旋片泵和一个双级化学隔膜泵结合在一起，达到**的耐腐蚀效果。隔膜泵用以维持油腔内的真空度，使溶剂蒸汽的分压保持在它们的露点之下，大大减少氧化性或腐蚀性气体的冷凝。

单级真空泵RE 2.5是一款高性能的旋片泵，它的结构非常紧凑且重量轻。对于实验室及工艺应用中极限真空需求不高、抽速适中的情况，这款泵是一种理想的解决方案。

PC 3002 VARIO真空系统是大量溶剂蒸发过程的可靠之选。进气口收集瓶可以防止颗粒或液滴进入泵内。出气口的废气冷凝器可实现近1**%的溶剂回收效果，可有效地循环利用溶剂，同时主动地保护环境。因需...

学真空系统 MD 4C NT+AK+EK广泛应用于化学、生物和制药实验室的排气、蒸发或者气体抽取等过程。系统可很好地满足高沸点溶剂的真空需求。主要用于和旋转蒸发仪或真空干燥箱等仪器连用。