引言
高纯氢氟酸为强酸性清洗、腐蚀剂,可与硝酸、冰醋酸、双氧水及氢氧化铵等配置使用,主要应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)芯片的清洗和腐蚀,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。目前,在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业,其他方面用量较少。
方案依据SJ/T 11637--2016电子化学品电感耦合等离子体质谱法通则
方法原理
试样溶液经雾化系统雾化后形成气溶胶,由载气带入等离子体内,在高温和惰性氩气气氛中蒸发、汽化、解离和电离,转化成带正电荷的离子,经离子采集系统进入质谱仪,按离子的质荷比进行分离,各离子质谱峰的强度与样品中相应离子浓度成正比,可对各元素进行定性或定量分析。
仪器及试剂
美析ICP-MS6880电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)
精密微量移液器及洁净的聚丙烯(PP)吸头
精密微量移液器量程: 10u L-100uL,100uL-1000uL。
全氟烷氧基树脂(PFA)瓶
实验用水符合GB/T 11446.1规定的EW-Ⅰ级电子级水。
超纯硝酸,金属离子含量不大于1ug/L。
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