- 招标编号:OITC-G240270064/清设招第20230352号正在评标
- 仪器网 2023-12-27 11:34:55 点击 73 次
- 【预算3570万 清华大学采购电感耦合等离子体增强化学气相沉积】,招标编码为【OITC-G240270064/清设招第20230352号】,招标项目内容包括【异质接触与互连溅射台、电感耦合等离子体增强化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积设备、通用电子束蒸发台】,投标截止到【2024-01-16 13:30】,欢迎合格的供应商前来投标
近日,清华大学异质接触与互连溅射台、电感耦合等离子体增强化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD 3和通用电子束蒸发台采购项目进行公开招标,招标项目的潜在投标人应在http://www.oitccas.com/获取招标文件,并于2024年01月16日 13点30分开标。
一、项目基本情况
项目编号:OITC-G240270063 /清设招第20230337号
项目名称:清华大学异质接触与互连溅射台采购项目
采购需求:
异质接触与互连溅射台采购1套,预算金额:480万元,国产,项目拟购置设备为异质接触与互连溅射台,可实现多靶位共溅射,主要用于MEMS 三维异质异构集成与 MEMS执行器加工。
项目编号:OITC-G240270064/清设招第20230352号
项目名称:清华大学电感耦合等离子体增强化学气相沉积(ICP-CVD)采购项目
采购需求:
电感耦合等离子体增强化学气相沉积(ICP-CVD)采购1套,预算金额:640万元,允许进口。
用途:本设备通过电感耦合(ICP)方式产生高密度等离子体,在半导体或有机材料衬底上沉积低温高致密低应力的氧化硅、氮化硅等介质膜,主要用于MEMSOIS加工,具体应用包括:
(1)MEMS OIS 稳像器低应力薄膜沉积;
(2)支撑氮化硅、氧化硅低温低应力高致密度薄膜沉积。
项目编号:OITC-G240270065 /清设招第20230362号
项目名称:清华大学等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD 3腔)采购项目
采购需求:
等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD 3采购1套,预算金额:1650万元,国产。
用途:本设备为 MEMS 陀螺、加速度计、执行器、OIS、压力计的主要成膜设备。
具体应用包括:
1.支撑各型 MEMS 器件金属前、后的氧化硅、氮化硅介质膜快速沉积;
2.考虑金属前、后的交叉污染问题,对一期设备进行补充。
项目编号:OITC-G240270066/清设招第20230359号
项目名称:清华大学通用电子束蒸发台采购项目
采购需求:
通用电子束蒸发台采购2套,预算金额:800万元,允许进口,通用电子束蒸发台为常温下高纯度金属薄膜制备的主要设备,主要用于各类 MEMS 器件的 PVD 工艺。具体应用包括:顶电极制备和深硅刻蚀的金属掩蔽层制备等。
本项目( 不接受 )联合体投标。
二、获取招标文件
时间:2023年12月26日 至 2024年01月03日,每天上午9:00至11:00,下午13:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)
招标文件采用网上电子发售购买方式:
1)登陆“东方招标”平台(http://www.oitccas.com/)完成投标人注册手续(免费),然后登陆系统寻找有意向参与的项目,已注册的投标人无需重新注册。招标文件售价:人民币600 元。如决定购买招标文件,请完成标书款缴费及标书下载手续。
2)投标人可以电汇的形式支付标书款(应以公司名义汇款至下述指定账号)。
开户名称:东方国际招标有限责任公司
开户行:招商银行北京西三环支行
账 号:862081657710001
3)投标人应在平台上填写开票信息。在投标人足额缴纳标书款后,标书款电子发票将发送至投标人在平台上登记的电子邮箱,投标人自行下载打印。
三、提交投标文件截止时间、开标时间和地点
提交投标文件截止时间:2024年01月16日 13点30分(北京时间);
开标时间:2024年01月16日 13点30分(北京时间);
地点:北京市海淀区丹棱街1号互联网金融中心20层东方厅(一)。
四、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。
1.采购人信息
名 称:清华大学
地址:北京市海淀区清华大学
联系方式:010-62780052
2.采购代理机构信息
名 称:东方国际招标有限责任公司
地 址:北京市海淀区丹棱街1号互联网金融中心20层
联系方式:窦志超、王琪、李安齐,010-68290523、010-68290507
3.项目联系方式
项目联系人:窦志超、王琪、李安齐
电 话:010-68290523、010-68290507