单层石墨烯膜增长方法：CVD合成、质量控制：光学显微镜&拉曼检测，外观（颜色）：透明，透明度：>97%,外观（形状）：薄，覆盖率：>95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，基材铜铝箔：厚度：18μm、应用程序：石墨烯研究、多功能的电池、电子、航空航天工业、微机电系统和NEMS，微执行器，导电涂料。