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上海伯东 KRI 线性霍尔离子源 eH Linear

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产品特点

上海伯东代理美国原装进口 KRI 线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现Z佳的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.
霍尔离子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

详细介绍

价格电议

KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数

型号

eHL400-2/   eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5

供电

DC magnetic   confinement

  - 电压

40-200V VDC

  - 阳极结构

模块化

电源控制

eHL-30010A

配置

-

  - 阴极中和器

Filamentless

  - 离子束发散角度

> 45°   (hwhm)

  - 阳极

标准或 Grooved

  - 底座

移动或快接法兰

  - 高度

10 cm

宽度

10 cm

  - 长度

~ 100cm

  -工艺气体

Ar, Xe, Kr,   O2, N2, Others

 

Model

eHL 200-3

eHL 200-5

Height   (nominal)

2.9” (7.4cm)

2.9” (7.4cm)

Width   (nominal)

3.3” (8.4cm)

3.3” (8.4cm)

Length   (nominal)

Determined by   number of modules & application

Determined by   number of modules & application

Cathode/Neutralizer

Yes

Yes

Anode module

Yes

Yes

Filamentless

Yes

Yes

Orientation

Vertical /   Horizontal

Vertical /   Horizontal

Process gases

Inert,   reactive, & organic

Inert,   reactive, & organic

Power   controller

eH Plasma Power   Pack

eH Plasma   Power Pack




 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专 利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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