Nicomp 380 纳米粒径分析仪 采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围0.3nm 10μm。粒度分析复合采用Gaussian单峰算法和拥有ZL技术的NiComp多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。整机采用模块化设计,可灵活方便地扩展Zeta电位等其它功能。

Nicomp380纳米粒径分析仪

基本概述：

Nicomp380纳米粒径分析仪是纳米粒径分析仪器，采用现在先进的动态光散射原理，利用ZL的Nicomp多峰算法可以很准确的分析比较复杂多组分混合样品。为实验室的研究提供**的分析技术。测试范围：0.3nm 10μm。

产品介绍：

Nicomp380纳米粒径分析仪采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围0.3nm-10μm。粒度分析复合采用Gaussian单峰算法和拥有ZL技术的Nicomp多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。

工作原理：

动态光散射法(DLS)，有时称为准弹性光散射法（QELS），是一种成熟的非侵入技术，可测量亚微细颗粒范围内的分子与颗粒的粒度及粒度分布，使用zui*技术 ，粒度可小于1nm。动态光散射法的典型应用包括已分散或溶于液体的颗粒、乳剂或分子表征。悬浮在溶液中的颗粒的布朗运动，造成散射光光强的波动。分析光强的波动得到颗粒的布朗运动速度，再通过斯托克斯-爱因斯坦方程得到颗粒的粒度。

纳米粒径分析仪仪器参数：

应用领域：

医药领域：乳剂，注射剂，脂质体，胶体，混悬剂，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等；

半导体：CMP Slurry，芯片，晶圆加工等；

特殊化工品：墨水&喷墨，纳米材料，化工染料，润滑剂，清洗剂等。

• 其他：过滤产品，清洁度方面，食品饮料，化妆品等