激光刻蚀机
实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法。刻蚀最简单最常用分类是：干法刻蚀和湿法刻蚀。它们的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀。
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小型台式无掩膜光刻系统
- 品牌：英国Durham Magneto Optic
- 型号：Microwriter ML3
- 产地：欧洲 英国
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紫外曝光机/光刻机
- 品牌：德国suss
- 型号：MJB4
- 产地：欧洲 德国
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Nanoscribe无掩膜光刻机Quantum X shape
- 品牌：nanoscribe
- 型号：Quantum X shape
- 产地：欧洲 德国
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德国Heidelberg MLA 150 激光光刻机
- 品牌：德国海德堡
- 型号：MLA 150
- 产地：欧洲 德国
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德国Heidelberg MLA 100 激光光刻机
- 品牌：德国海德堡
- 型号：MLA 100
- 产地：欧洲 德国
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德国海德堡VPG 1600 型大尺寸掩膜版光刻机
- 品牌：德国海德堡
- 型号：VPG 1600
- 产地：欧洲 德国
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德国海德堡掩膜版光刻机VPG+ 800/1100/1400
- 品牌：德国海德堡
- 型号：VPG+ 800/1100/1400
- 产地：欧洲 德国
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海德堡掩膜版光刻机 VPG+ 200/400
- 品牌：德国海德堡
- 型号：VPG+ 200/400
- 产地：欧洲 德国
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EVG770 NT分步重复纳米压印光刻机
- 品牌：EVG
- 型号：EVG770
- 产地：欧洲 奥地利
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EVG620 NT掩模对准光刻机系统
- 品牌：EVG
- 型号：EVG620
- 产地：欧洲 奥地利
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HERCULES量产型光刻机系统
- 品牌：EVG
- 型号：HERCULES
- 产地：欧洲 奥地利
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EVG7300多功能紫外纳米压印光刻系统
- 品牌：EVG
- 型号：EVG7300
- 产地：欧洲 奥地利
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EVG6200 NT掩模对准光刻系统
- 品牌：EVG
- 型号：EVG6200 NT
- 产地：欧洲 奥地利
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Nanoscribe Quantum X align对准双光子光刻系统
- 品牌：nanoscribe
- 型号：Quantum X align
- 产地：欧洲 德国
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Nanoscribe Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统
- 品牌：nanoscribe
- 型号：Photonic Professional GT2
- 产地：欧洲 德国
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SPS 光刻机 POLOS µ
- 品牌：德国SPS-保罗
- 型号：POLOS µ
- 产地：欧洲 德国
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EVG单面/双面掩模对准光刻机EVG610
- 品牌：EVG
- 型号：EVG610
- 产地：欧洲 奥地利
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￥1500000 -
POLOS® BEAM桌面无掩模光刻机
- 品牌：德国SPS-保罗
- 型号：BEAM
- 产地：欧洲 德国
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上海伯东氦质谱检漏仪光刻机检漏 ASM 310
- 品牌：普发真空
- 型号： ASM 310
- 产地：欧洲 德国
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紫外曝光机/光刻机
- 品牌：德国suss
- 型号：MA6/BA6
- 产地：欧洲 德国
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英国Durham小型台式无掩膜光刻机-Microwriter ML3
- 品牌：英国Durham Magneto Optic
- 型号：Microwriter ML3
- 产地：欧洲 英国
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德国SUSS 紫外光刻机 MJB4
- 品牌：德国suss
- 型号：MJB4
- 产地：欧洲 德国
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无掩膜光刻机
- 品牌：孚光精仪
- 型号：lithograp
- 产地：欧洲 法国
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€5000000 -
荷兰4PICO 激光直写光刻机 PicoMaster200
- 品牌：荷兰4PICO
- 型号：4PICOPicoMaster200
- 产地：欧洲 荷兰
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荷兰4PICO 大幅面无掩模激光直写光刻机PicoMaster XF 500-H
- 品牌：荷兰4PICO
- 型号：4PICOPicoMasterXF500-H
- 产地：欧洲 荷兰
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桌上型激光直写光刻系统Dilase 250
- 品牌：克劳伊
- 型号：Dilase 250
- 产地：欧洲 法国
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荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机
- 品牌：瑞士SCIL
- 型号：AutoSCIL
- 产地：欧洲 瑞士
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荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机
- 品牌：瑞士SCIL
- 型号：LabSCIL
- 产地：欧洲 瑞士
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