感谢各位百忙之中阅读此邀请文。ULVAC-PHI将于2023年6月20日首次线上(ZOOM)召开“International LEIPS Workshop”线上研讨会,时长3小时15分钟,可随时入室参与研讨会。
为了更好地结合表面分析技术解决问题,帮助用户更好地了解和应用低能量反光电子能谱(LEIPS)分析技术,本次会议有幸邀请到日本千叶大学吉田·弘幸 (Yoshida Hiroyuki)教授以及3位专家带来精彩报告。诚邀广大专家学者和科研人员积极与会,届时分享、交流和学习相关经验和技能。
LEIPS应用
LEIPS是采用低能量电子(小于5 eV)入射到样品表面,通过对出射光子进行检测,从而获取样品导带(CB/LUMO)和电子亲和势(EA)的信息。ITO薄膜是现有的TCO薄膜中导电性能最 好的产品之一,被广泛应用于触摸屏、LED显示屏和太阳能电池等领域。然而IO:H作为ITO的替代材料,在红外光区的吸收率更低的机理并不明确。PHI XPS搭载紫外光电子能谱(UPS)和LEIPS全面地表征了样品相对于真空能级的能带电子结构(如图)。结果显示这两种薄膜的费米能级、带隙以及电子亲和势都没有明显差异。但是,从放大的费米能级附近的谱图表明IO:H的费米能级附近的电子态密度也较低,这可能是造成红外光吸收率差异的主要因素。综上,PHI XPS可实现对样品的原位综合分析,快速评估样品性能,从而辅助不同行业的从业人员以及研究人员进行深入研究先进材料。
会议时间
2023年6月20日 北京时间上午8:00(7:30开放加入会议)
举行方式
线上会议,ZOOM
(ZOOM的PC客户端 下载链接:https://zoom.us/download#client_4meeting)
报名方式
请扫描下方二维码报名
(只有已报名人员后续才能获取来自no-reply@zoom.us发送的会议链接)
报名链接:(https://us06web.zoom.us/webinar/register/WN_1wdraeRcRyyA0eMJcQofHg#/registration)
报名将于6月19日截止
注意事项
① 本次会议全程用英语进行
② 请报名者在会议召开前下载ZOOM
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