新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.2 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM)用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术,高效,灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。
场发射扫描电子显微镜 SU9000 核心参数
电子枪: | 钨灯丝 |
详细介绍
场发射扫描电子显微镜 SU9000
专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件,高分辨成像所设计。
特色
产品优势
专门为电子束敏感样品和需zuida300万倍稳定观察的先进半导体器件,高分辨成像所设计。
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- (新加坡)Semicaps
- (美国)赛默飞世尔
- (荷兰)JIACO
- (日本)日本滨松
- (日本)SAMCO
- (苏州)蓝岸
- (日本)尼康
- (美国)若克兰
- (英国)微视
- (美国)SONIX
- (美国)美国Allied
- (美国)ASP
- (美国)Nisene
- (日本)日立
- (英国)英国ABERLINK
- (德国)德国werth
- (美国)美国福禄克
- (奥地利)奥地利EMCOTEST
- (日本)日本奥林巴斯
- (美国)美国OGP
- (德国)捷镭
- (美国)美国Akrometrix
- (朝阳区)微厘光电
- (德国)Microtronic
- (西青区)奥特梅尔
- (新加坡)AXIS-TEC
- (以色列)SELA
- (英国)牛津仪器
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仪企号似空科学仪器(上海)有限公司
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