制膜设备

VTC-50PA-DC 微型旋涂机主要适用于液体、胶状体、可流动糊状体等薄膜材料的使用。设备采用不锈钢外壳结构，使产品更轻量化且耐腐蚀，上盖采用透明亚格力材质，可清晰的观察到涂膜整个过程。样品固定采用...

PTL-MMB02-500恒温垂直提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备，在恒温场内通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用高精度速度控制系统，以及触摸屏参数输入端，实现提拉涂膜全过程...

磁控溅射蒸发镀膜仪VTC-1RF-SPC是一套可实现射频磁控溅射和蒸发镀膜功能的系统，包含射频电源、温控型蒸发镀膜模块、真空系统，水冷设备，磁控溅射靶头，不锈钢腔室等。

MSK-AFA-W500-AL大型平板涂布机主要用于实验室涂覆液体状或胶体状薄膜使用，设备采用精密级步进齿轮箱电机对涂膜速度进行精确控制，达到均速推进刮刀进行涂膜的目的，滚轮式刮刀采用全不锈钢材质，有...

VTC-600G高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-...

PTL-MM02-200-4 四工位提拉机一次可提拉二个样件，通过程序控制使样件，在装料烧杯中浸没一定时间后提拉出来进行干燥，浸没时间和干燥时间可以通过程序进行设置。PTL-MM02-200-4四工位...

GSL-1800X-ZF6钙钛矿镀膜机是一种利用电阻加热使膜材汽化蒸发后凝结在基片上成膜的加热镀膜方法，该方法结构简单、实用，使用可靠，适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄...

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄...

静电纺丝法是一种利用高压电场的作用，将聚合物溶液或熔体纺丝成尺度在微米到纳米级的细纤维的简单而有效的加工工艺，即聚合物喷射静电拉伸纺丝法。由于静电纺丝制备的纤维比传统的纺丝方法细得多，直径一般在数十到...

MSK-AFA-IVDV多功能小型真空自动涂布机的优点在于可以反复,持续地制备出光滑平整而无暇疵的测试样品. 方便实验人员在不同的底材上精确的涂布，减小以及消除了由于涂布速度以及压力不同等人为因素造成...

TC-300USS超声雾化旋转涂膜机可以精确控制溶液化学计量比、雾粒喷出速度、雾粒大小等参数。采用步进电机和微处理器控制容积泵精确输送溶液（溶液可以选择被加热）；超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂

TC-16-3HD3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），控制面板采用触摸屏模式，基片最大尺寸2″，放置样品的直径为Φ50mm，加热温度达500℃。本机可溅射金、银、铜三种靶材，

SK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层，并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动，以确保涂层的均匀性。同

TC-100真空旋转涂膜机主要应用于大专院校、科研院所的实验室中的薄膜形成。本机利用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。主要特点1、二段程序控制速度。2、真空吸附方式固定样件

品简介MSK-NFES-4静电纺丝纳米纤维制备系统是一个完整的纳米纤维制备系统，或者说是一个完整的静电纺丝涂覆系统（或电喷镀）。具有操作软件友好、设计以任务作业为基准、易于操作、优越的性价比等优点，因

SK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机可以精确控制溶液化学计量比、雾粒的喷出速度和雾粒大小等参数，采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层，