清洗设备

CE-3等离子清洗机使用空气、氧气、氩气等离子去除纳米级有机物污染，在射频电源的作用下，最大去除速率为10nm/min。在单晶材料外延薄膜生长以前对其进行预处理，将对生长具有显著的作用。主要特点1、使

CE-6V小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵，清洗腔内的等离子体轻

CE-8等离子清洗机是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为Φ8.5"×12"的石英腔体，采用的射频电源功率0-100W连续可调节。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和

CE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为Φ160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体

SL-1100X-PJF-A等离子表面处理仪是一款紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件的环境下，迅速活化和清理材料（如单晶片、光学

SL1100X-PJF等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成，喷射的离子束流能在较低的温度和非真空条件下迅速活化和清理材料表面（例如单晶片、光学元件、塑料

列高功率数控超声波清洗机采用超声发生源与清洗槽为落地式一体化设计，采用高功率发射，主要适用于工矿企业、大专院校、科研单位的大工件、大批量、腐粘性强或难以清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉

GT-1620QTD超声波清洗机用于清洗眼镜、珠宝首饰、钟表等，并可在机械、纺织、电子、化纤、石油化工、医药、大专院校、科研实验室、超硬材料及**等行业中应用，可以清理一般工具达不到的地方，实现无损伤

GT-1620TD超声波清洗机用于清洗眼镜、珠宝首饰、钟表等，并可在机械、纺织、电子、化纤、石油化工、医药、大专院校、科研实验室、超硬材料及**等行业中应用，可以清理一般工具达不到的地方，实现无损伤清

CE-600、800自动清洗机是专门用于晶圆、QFN、玻璃、基板、手机模组和陶瓷等切割后的清洗设备。此系列为二流体清洗方案，采用可编辑控制器＋全彩色触摸屏为操作系统，令设备性能更加稳定、操作便捷。采

VTC-200-CE半柜式清洗机采用直线导轨控制柱状液流沿 wafer.半径方向来回扫动,同时配备有去离子水淸洗和氮气吹干功能,采用高精度伺服电机控制 wafer的旋转,由七寸全彩触屏进行操作，全不

PCE-22紫外臭氧清洗机是一款可加热型的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM &TEM，紫

PCE-3等离子清洗机的等离子腔体为Ø75mm×165mm的耐热玻璃腔体，输出功率6.8W、10.5W、18W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同

EC-200是一款ZD功率可达2KW的电晕处理机，ZD处理宽度可达200mm，主要用于前级处理各种流延膜基材，本机放电电极采用陶瓷辊，除PE、PP、PEO等一般的塑料箔材外，也可用于铜箔铝箔等导电金

转瓶等离子清洗机，专为处理颗粒、粉末样品而设计。在等离子体作用下，一些材料很容易发生断键和聚合，转瓶等离子清洗机可以高效率的处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料，改变了传统真空等离子清洗机无法处理颗

GSL-1100X-PJF-(A)等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成，喷射的离子束流能在较低的温度和非真空条件下活化和清理材料表面（例如单晶片、光学