CIF进口的紫外臭氧清洗机

美国BIOFORCE紫外臭氧清洗机（UVO）入驻山东大学

  美国Biofore公司的ProCleaner ™的产品线提供非常有竞争力的价位，并给研究者提供更多的选择机会。该ProCleaner ™装置的用途是消除分子程度的污染，使探针和表面尽可能清洁。

应用领域：
✲预处理表面图案化工具
✲清洁硅和氮化硅探针
✲晶圆清洗
✲表面氧化及制备
✲提高表面亲水性
✲表面清洗
✲制备薄膜沉积
✲紫外光固化
✲表面图案化
✲清洗光学镜头
✲粘接硅橡胶
✲表面消毒
✲清洁MEMS器件
可处理材料表面：
✲氮化硅
✲ 金属
✲玻璃
✲云母
✲石英
✲陶瓷
✲聚合物 

产品特点：
✲高强度UV灯源，持续GX的清除样品表面有机污染物；
✲成本低、简单、经济、快速；
✲结构紧凑（体积小）；
✲抽屉式样品台；
✲多功能样品定位支架
✲安全联锁和指示灯
✲样品清洗无需溶剂；
✲超洁净表面；
✲室温操作。
技术参数：
型号：UV Ozone Cleaner–ProCleaner™ Plus、UV Ozone Cleaner–ProCleaner™
样品台尺寸：100mmx125mm；

英国Ossila紫外臭氧清洗机入驻中科院金属研究所

英国Ossila公司提供的紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速的材料表面清洗设备，只需把样品放置到样品盘上，关上舱门，设置时间，并按运行，就可以了，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗几分钟就可获得！
目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。
表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。
表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。
主要应用：
石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。
微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。
精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。
在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。
科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。
产品特点
成本低；
✲120x120mm样品台；

✲样品清洗无需溶剂；
✲超净表面。

       
技术参数

在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300纳米二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。