PHI CHINA春节假期服务公告

1. OLED各元素在不同层的分布的那张图是直接可以得到还是要通过定量处理？

回复：请参考以下这张图：首先说明一下是选用不同组分的特征离子（右图）表征不同膜层组分的深度分布，横坐标是通过溅射时间和溅射速率换算的厚度坐标，如果直接得到的是时间轴；纵坐标是谱峰的强度（直接测试采谱，从谱峰强度面积积分得到），假定整个有机膜层基体效应相当的情况下，可以用谱峰强度的变化表征成分的含量变化，从而区分不同膜层的主要成分组成。

2. 不会撞到其他离子吗？

回复：当然不会了，进入CID之前，二次离子已经分开了，只有质量选择器选择的离子才可以进入CID产生碰撞。

3.为什么MS2的质量分辨率不受MS1影响？

回复：MS1中的前驱体，在MS2中相当于一个样品，需要再次裂解，而裂解过程在MS2中进行，且MS2是独立的质谱仪，其分辨率由本身性能决定。

4. 只有MS1可以匹配出化学结构吗？

回复：MS1采集的质谱是表面所有组分产生的二次离子质谱图，如果表面成分复杂得到的MS1质谱图就会比较复杂，除了一些比较小的原子离子和分子离子比较容易进行定性判定，质量数大于m/z 200的很难匹配出准确的化学结构；因此需要配置串联质谱MS/MS，即可以单独挑出某个特征大分子离子进行解离，得到MS2质谱图，MS2图谱中的谱峰都属于这个特征大分子离子的子离子碎片，等于纯化了分析数据，因此很容易通过一些标准的质谱数据库匹配出MS2图谱对应的化学物质或分子结构。

5. 测试前如何判断有机大分子可能的分裂情况？

回复：如果是测试未知组分，测试前是不能判断分子的分裂情况的；如果是已知有机组分，可以根据分子结构特征和一些已有经验（来自对一些已知有机材料的图谱分析得来）判断可能产生的离子碎片。

6. 怎么保证MS2是从MS1中选定的特离子？

回复：可以保证，因为MS2用于分析的离子就是从MS1图谱中挑选出来的：分析时，首先采集表面所有的二次离子，得到MS1图谱，根据MS1图谱里的图谱信息，挑出特征的precursor ion (前体离子）用于MS2解离和分析。（具体实现过程请关注我们的第二堂课）

7. 横坐标为什么是m/z，而不是m?

回复：因为TOF-SIMS主要采集的是二次离子（有质量和电荷），所以用荷质比m/z表示；通常电荷数是1，所以呈现的数值与m（质量数）相等，但意义不同。

8.  300—500nm的晶粒看组分分布，分辨率如何？大面积收集的信号量多吧？

回复：TOF-SIMS的空间分辨率是70纳米（高空间分辨模式下），如果是在HR2模式下，即Z好的质量分辨率下（m/∆m@10000左右），空间分辨率是百纳米左右（与样品相关）。所以如果测试300-500nm的晶粒组分，晶粒分散在导电基底上，是可以用TOF-SIMS微区定点到单颗粒上进行采谱分析。

无论是微区分析还是大面积分析都是采用聚焦离子源在表面扫描，激发信号强度相当。

9.与其他仪器联用如何保证同个区域

回复：目前PHI TOF-SIMS 没有与其它仪器联用的案例。如果客户自己安排不同的表面分析测试（SEM/ XPS/ TOF-SIMS等），Z好以对特征区域的成像（光学成像、二次电子成像、离子成像等）判断和定位分析区域，以保证分析发生在同一区域。

10. 药片截面如何制备？

回复：因为制备截面或剖面的时候Z怕引入新的污染或造成交叉污染，Z好采用离子束剖面切割（CP: Cross section polisher）来制备样品。

11. 我做的小面积mapping没有大面积清晰，为什么？

回复：如果分析条件（参数）设置相同，无论是大面积和小面积MAPPING空间分辨率是相同的。只是小面积下（更高的放大倍率下）更容易看出空间分辨的实际能力，其对更微区特征区域的分辨能力，如果高放大倍率下，分析特征已经接近设备的空间分辨尺度，那图像呈现就会看起来不清晰。

12. 对于有机无机掺杂的材料，串联质谱是要做预实验确定要分析的大分子吗

回复：对于有机无机掺杂材料，表面成分的确比较复杂，所谓预实验，也就是用常规的MS1先进行表面所有离子的采集，然后根据MS1质谱图确定和挑出要用MS2分析的大分子离子。

13. 特定深度2D图如何选，一般不是都选成区域？

回复：在深度剖析的时候，因每分析一层都会保存这一层的分析区域的mapping, 每个像素点的离子质谱图;

通过软件可以回溯特定深度的2D MAPPING图 （就是根据特定溅射时间范围选择：对应深度），所呈现的就是特定深度所分析区域的Mapping, 详细操作步骤请关注第三课数据处理的课程。

14. 单颗粒深度剖析如何比如直径2um能实现吗？

回复：根据TOF-SIMS的现有能力，对于直径2um的单颗粒是可以尝试进行深度剖析的，当然也要看基体效应影响。

15. 有机无机掺杂，能分析吗？

回复：TOF-SIMS对有机无机材料都有很好的表征能力，当有机无机掺杂浓度在TOF-SIMS 检出限能力所及的条件下是可以进行分析的。如果掺杂浓度太低（ppb-ppt）, 那需要用D-SIMS进行分析。

16. 二次离子在飞行管道中只用跑一圈就能分开吗？

回复：当然可以分开。

17. 可分析有hole样品，样品台可各方向旋转？

回复：五轴样品台可旋转和倾斜，也有特殊倾斜样品托适合用于Hole样品分析，见下图：

18. 结构解离情况与激发离子源有关吗？

回复：解离产生特征的原子离子和分子离子与结构本身有很大关系，但产生的二次离子产额除了与基体效应相关，的确与激发离子源有关。比如现在分析源用Bi源，可以采用Bi单原子离子和团簇离子源，如果采用单原子离子激发出的二次离子中原子离子和小分子离子产额高，而大分子离子产额低，而采用Bi团簇离子源入射则会提高大分子离子产额。

19. 怎样解决depth profile过程中采谱位置漂移的问题？

回复：跟样品导电性相关，如果样品导电性不好的，请使用PHI提供的mask及Grid等辅助导电增强的样品托配件。

20. pulse宽为何空间分辨率高？

回复：见下图，脉冲长度宽，时间差长（质量分辨率差），但束斑直径可以聚焦到Z好，束斑越小，空间分辨率越高。

21. profile波动，什么叫选择性溅射？

回复：溅射离子源与样品表面材料相互作用，对不同的原子或分子有不同的作用机理以及剥离速率，有些原子比较容易被溅射移除，有些原子又很难被剥离，同一离子源对表面同一表面但不同成分作用程度有差异，造成择优溅射。

22. depth profile采谱过程中，采谱位置容易发生漂移，有什么比较好的方法可以解决这个问题？Depth面积是400*400um，采谱面积是30*30um

回复：跟样品导电性相关，如果样品导电性不好的，请使用PHI提供的mask及Grid等辅助导电增强的样品托配件。

23. 同问：同一个区域在正负离子切换时，采谱位置也容易发生偏移。样品导电性一般，表面是SiO，下面是Cu

回复：跟样品导电性相关，如果样品导电性不好的，请使用PHI提供的mask及Grid等辅助导电增强的样品托配件。

24. ESA 1 2 3 然后收到讯号，跑了一圈， 可以跑两圈么？如果可以有什么效果么？

回复： 首先没有跑一圈，只跑了3/4圈。不可以跑两圈，如果可以的话，可以改善质量分辨率。

25. ppm什么意思？

回复：parts per million. 百万分之一

26.扫描面积多大？ 

回复：离子束扫描面积一般可以到600X600um，如果配合样品台一起扫描的话，可以扫描整个样品台的范围。

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       新型冠状病毒感染肺炎疫情防控工作正处于关键时期，疫情防控关乎每个人的生命健康，为减少公众交叉感染和降低传播风险，PHI CHINA积极配合国家的防控工作。PHI CHINA始终秉持初心，在疫情防控期间已经着手通过多种渠道继续为我们的用户提供优质服务，并于近期通过互联网平台连接我们的客户启动光电子能谱ZT网络讲堂，与大家携手发挥好PHI XPS仪器功效，进一步推动表面分析技术的应用和发展。

       X射线光电子能谱仪作为表面分析领域重要的大型科学仪器，广泛应用于科学研究和高科技产业等领域。ULVAC-PHI独具特色的扫描聚焦型XPS可以提供高表面灵敏（<10 nm）和高空间分辨(<10 um)的化学态解析能力；通过与UPS和IPES相结合，可以实现对芯能级、价带和导带电子结构信息的全面探测；通过结合氩离子和团簇离子源（GCIB），可以实现对无机/有机多层膜结构材料进行深度剖析。为了帮助客户深入了解扫描聚焦型X射线光电子能谱仪的技术特点，提升大型科学仪器在表面分析中的功用，本期光电子能谱ZT之网络讲堂将聚焦于光电子能谱原理、仪器结构、数据处理、实验技术以及日常维护等基本操作，网络讲堂具体安排如下：

请填写以下报名表格，提供有效Email地址以接收网络讲堂参会邀请,并于2月7日前回复

如有任何问题，可联系:

潘剑南 1861230 0780, nice.pan@coretechint.com

张伟 185 0008 4171, William.zhang@coretechint.com

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       继上期面向PHI用户的表面分析技术网络讲堂的成功举办，本期面向高校师生的网络讲堂也如约而至，在昨天（2月20日）为小伙伴们开讲了diyi课，共有来自90多所高校和科研院所的千余名师生参加。在接下来的三周，将有更精彩的内容呈现给大家，让我们一起来探索表面分析的世界！

       当前新型冠状病毒疫情防控工作正处于关键时期，疫情防控关乎每个人的生命健康，为减少公众交叉感染和降低传播风险，高校都已经宣布推迟春季学期开学。虽然现在只能宅在家里，但是疫情是暂时的，学习是长远的，待到春暖花开时，小伙伴们就可以奔赴科研战线，攀登科学的高峰！X射线光电子能谱仪作为表面分析领域重要的大型科学仪器，广泛应用于科学研究和高科技产业等领域。ULVAC-PHI独具特色的扫描聚焦型XPS可以提供高表面灵敏（<10 nm）和高空间分辨(<10 um)的化学态解析能力；通过与UPS和IPES相结合，可以实现对芯能级、价带和导带电子结构信息的全面探测；通过结合氩离子和团簇离子源（GCIB），可以实现对无机/有机多层膜结构材料进行深度剖析；通过专业的XPS数据处理软件MultiPak可实现对数据的定性和定量分析。

       X射线光电子能谱（XPS）已经是材料分析中离不开的利器，但是小伙伴们对测试和数据分析还是有些疑问，样品怎么准备，如何进行微区分析，深度分析中膜厚怎么计算，数据如何拟合，UPS功函数如何计算，如果测试导带和带隙，测试得不到满意结果...您是不是也有类似的困惑吗？为了帮助小伙伴们深入了解XPS的功能特点和数据解析，让XPS助力提升科研工作，本期光电子能谱ZT之网络讲堂面向科研一线的师生，将详细讲解光电子能谱的基本原理、仪器结构、实验技术以及数据处理，网络讲堂具体安排如下：

       如果您对光电子能谱或者其他表面分析技术感兴趣，欢迎您关注我们公众号，我们会持续为您呈现精彩内容，让我们一起来探索表面分析的世界！

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       昨天的上课视频，想要下载，可以点击微信公众号“阅读原文”，通关密码是“erlk”

PHI CHINA自2月11日开始通过网络直播的方式，展开为期四周的光电子能谱ZT讲座，获得了广泛关注和一致好评。为了满足大家热切的学习需求，PHI CHINA将推出“俄歇电子能谱ZT”讲座，为期三天：3月11日至3月13日，每天下午三点准时开讲。

01 3月11日

鲁德凤

AES技术基本原理、主要功能和应用 

主要内容： 

①、AES 的基本原理：俄歇电子的产生、主要技术能力；空间分辨、检出限以及定性定量等；俄歇系统的基本构成和能量分析器的特点；

②、AES 的主要功能：采谱、线扫描、成像、深度剖析等；冷脆断断面分析、原位 FIB+EDS+BSE+EBSD 全方位成分表征； 

③、AES 的主要应用：纳米材料、金属、半导体、催化材料、能源电池、太阳能光伏、膜层结构剖析等。 

02 3月12日

辛国强

AES硬件简介、仪器功能及特点  

主要内容：

①、系统结构；

②、真空系统； 

③、能量分析器基本原理；

④、电子枪及电子探测器； 

⑤、离子枪基本原理； 

⑥、俄歇仪器功能及特点。 

03 3月13日

叶上远

AES样品制备、数据采集及处理 

主要内容：

①、对于不同的分析目的，如何做相对应的样品制备；

②、简单的俄歇图谱解释，原图和微分谱与定性/定量分析；

③、如何使用软件和俄歇手册处理重叠峰；

④、俄歇峰背景扣除；

⑤、线扫和面扫数据分析；

⑥、如何使用 LLS 进行深度分析数据处理；

⑦、从导体到半导体俄歇分析，以及分析中电荷中和的方法。 

此次讲堂继续延用网络直播的形式，现场答疑。

PHI CHINA在表面分析领域多年深耕，专注表面分析的发展与科研，希望本系列讲堂能帮您丰富知识，提升技能，与大家携手进一步推动表面分析技术的蓬勃发展。若您对课程安排或技术方面有任何疑问，欢迎在微信公众号给我们留言。

更多资讯，请关注微信公众号：PHI与高德，我们将不定期共享更多资料，为您在科研道路上助力。 

        PHI CHINA多年来一直致力于探索PHI XPS表面分析技术手段在各个研究方向的应用与发展，在开展一系列网络讲座的同时，也积极的参与各高校开展的主题会议。为与各位专家学者、老师同学们可以面对面的交流讨论，PHI CHINA受邀参与青岛大学在2021年10月11日开展的“分析技术讲座”，并为大家带来精彩的演讲，欢迎大家前往现场进行技术交流！