电控喷油系统结构特点与原理
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- sue001954 2017-09-01 00:00:00
- 一、概述 我们所说的电喷柴油发动机与传统的柴油机的主要区别在于它的燃油供给系统的不同,前者采用的是电子控制燃油系统,而后者采用的是机械式燃油系统,目前电子控制燃油系统可分为三种,分别为: 电控直列泵燃油系统 电控分配泵燃油系统 电控高压共轨燃油系统 前两种燃油系统是在传统的机械式燃油系统的基础上增加了一套精确控制发动机喷油量和喷油时间的电子装置,从而大大降低了发动机排放污染并提高了燃油经济性。 第三种燃油系统是一种全新的燃油喷射系统,它是通过各种传感器检测出发动机的实际运行状态,通过计算机的计算和处理,可以对发动机的喷油量、喷油时间、喷油压力和喷油率进行Z佳控制,从而实现了柴油发动机综合性能的又一次飞跃。 康明斯ISBe发动机就是采用的电控高压共轨燃油系统。 二、电控共轨系统工作原理 燃油由发动机凸轮轴驱动的齿轮泵经滤清器从油箱中抽出,通过一个电磁紧急关闭阀流人供油泵。此时的压力约为0.5MPa,然后,油流分为两路,一路经安全阀上的小孔作为冷却油通过供油泵的凸轮轴室流入压力控制阀,然后流回油箱。另一路充人3缸供油泵。在供油泵内,燃油压力上升到135MPa或更高,供入共轨。共轨上有一个压力传感器和一个通过切断油路来控制流量的压力控制阀。 用这种方法来调节控制单元设定的共轨压力。高压燃油从共轨流人喷油器后又分为两路:一路直接喷入燃烧室,另一路在喷油期间,与针阀导向部分和控制柱塞处泄漏出的燃油一起流回油箱。 三、电控共轨系统的组成 电控高压共轨式燃油系统的基本组成如图所示。从功能方面分析,电控共轨系统 可以分成两大部分: 1.控制系统· 电控共轨系统可以分成三大部分:传感器、计算机和执行器。计算机是电控共轨燃油系 统的核心部分。 根据各个传感器的信息,计算机进行计算、完成各种处理后,求出Z佳喷油时间和Z合 适的喷油量,并且计算出在什么时刻、在多长的时间范围内向喷油器发出开启电磁阀、或关 闭电磁阀的指令等,从而精确控制发动机的工作过程。 电子控制系统的核心是ECU–电子控制单元。 ECU就是一个微型计算机。ECU的输入是安装在车辆和发动机上的各种传感器和开 关;ECU的输出是送往各个执行机构的电子信息。 2.燃料供给系统 燃料供给系统的主要组成部分如图所示。由图可见,燃油供给系统的主要构成是供油泵、共轨和喷油器。 燃油供给系统的基本工作原理是:供油泵将燃油加压成高压,供人共轨内;共轨实际上是一种燃油分配管。储存在共轨内的燃油在适当的时刻通过喷油器喷人发动机气缸内。电控共轨系统中的喷油器是一种由电磁阀控制的喷油阀,电磁阀的开启和关闭由计算机控制。 四、电控共轨系统的特点 电控高压共轨系统的特点可以归纳为: 1.自由调节喷油压力(共轨压力控制) 通过控制共轨压力而控制喷油压力。利用共轨压力传感器测量燃油压力,从而调整供油 泵的供油量、调整共轨压力。此外,还可以根据发动机转速、喷油量的大小与设定了的Z佳 值(指令值)始终一致地进行反馈控制。 2.自由调节喷油量 以发动机的转速及油门开度信号为基础,计算机计算出Z佳喷油量,并控制喷油器的通 断电时间。 3.自由调节喷油率形状 根据发动机用途的需要,设置并控制喷油率形状:预喷射、后喷射、多段喷射等。 4.自由调节喷油时间 根据发动机的转速和喷油量等参数,计算出Z佳喷油时间,并控制电控喷油器在适当的 时刻开启,在适当的时刻关闭等,从而准确控制喷油时间。 在电控共轨系统中,由各种传感器–发动机转速传感器、油门开度传感器、各种温度 传感器等–实时检测出发动机的实际运行状态,由微型计算机根据预先设计的计算程序进 行计算后,定出适合于该运行状态的喷油量、喷油叶间、喷油率模型等参数,使发动机始终 都能在Z佳状态下工作。 计算机具有自我诊断功能,对系统的主要零部件进行技术诊断,如果某个零件产生了故 障,则诊断系统会向驾驶员发出警报,并根据故障情况自动作出处理;或使发动机停止运 行–即所谓故障应急功能,或切换控制方法,使车辆继续行驶到安全的地方。 传统的泵管嘴燃油系统中,喷油压力与发动机的转速和负荷有关,不是一个独立变量。 在高压电控共轨系统中,喷油压力(共轨压力)与发动机的转速和负荷无关,是可以独立控 制的。由共轨压力传感器测出燃油压力,并与设定的目标燃油压力进行比较后进行反馈控 制。 懂了吗???
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- cll0987 2017-09-18 00:00:00
- 【1】电控共轨系统工作原理: 燃油由发动机凸轮轴驱动的齿轮泵经滤清器从油箱中抽出,通过一个电磁紧急关闭阀流人供油泵。此时的压力约为0.5MPa,然后,油流分为两路,一路经安全阀上的小孔作为冷却油通过供油泵的凸轮轴室流入压力控制阀,然后流回油箱。另一路充人3缸供油泵。在供油泵内,燃油压力上升到135MPa或更高,供入共轨。共轨上有一个压力传感器和一个通过切断油路来控制流量的压力控制阀。 用这种方法来调节控制单元设定的共轨压力。高压燃油从共轨流人喷油器后又分为两路:一路直接喷入燃烧室,另一路在喷油期间,与针阀导向部分和控制柱塞处泄漏出的燃油一起流回油箱。 【2】电控喷油系统结构特点如图所示:
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Newport电控位移系统-控制器产品线
在科研和工业环境的位移系统应用上,Newport有超过50年的产品设计和应用经验,能提供非常广的高性能运动控制的系统和方案,在几乎所有的应用领域,Newport都提供过各种不同的运动控制方案。
在这个过程中,Newport控制器产品线不断发展壮大。依据客户应用需求,研发出适用于不同的应用场景的不同型号和功能的控制器。如XPS系列控制器,它的出现推动了半导体前沿450mm晶圆加工系统的创新演变。又如,微型位移台和紧凑型的促动器CONEX系列在诊疗设备以及生命和健康科学领域应用非常广泛。
Newport开发的ESP技术,让Newport平台和驱动器在使用Newport兼容控制器时,真正的实现了即插即用技术。 XPS控制器也开发了配置向导功能,支持使用第三方平台和促动器,电机可以是各种各样的类型。包括直线电机、直流伺服、步进、压电电机。XPS还包括很多模拟数字接口,来支持外部设备的接入。
XPS系列
XPS支持Z多8轴的应用,有XPS-Q2、4、6、8四种型号可选。
l 高性能,1到8轴运动控制器可选,可控制步进电机、直流伺服电机、无刷电机、压电电机、音圈电机以及其他电机
l 高速的10/100Base-TEthernet TCP/IP通讯接口,高达10KHz的伺服回路和可变的PID参数,低通陷波滤波器,线性误差补偿和3D误差映射
l 种类繁多的控制 模式,包括点到点、速度剖面、线弧轨迹、样条曲线、PVT轨迹、电子齿轮加速和模拟输入跟踪
l 多样的外部设备和系统功能,包括4个模拟输入和输出,还有30路TTL输入输出
l 高速的数据采集,和事件触发功能以及高同步性
ESP301系列
ESP301可控制Z多3轴运动,有ESP301-1、2、3可选。ESP301控制器具有集成的手动面板界面和自动配置功能,它是价格Z合理,操作Z简单,功能Z全面的控制器。
l 采用额定电流3A的直流伺服电机和2相步进电机提供的通用驱动技术的1-3轴运动控制器
l ESP技术是Newport公司研发的便于安装ESP型平台的即插即用的兼容技术
l 1000X可编程微步分辨率确保进行超平稳和低速步进定位
l 应用于复杂运动控制的同步环形/线性查补和连续轨迹控制
l 便于快速连接电脑的USB2.0,RS232和可选的GPIB通信接口
CONEX-CC系列
外形小巧,价格低廉的CONEX-CC型驱动器特别适用于Newport低功率直流伺服电机驱动设备,CONEX-CC驱动器经过预配置并提供了运动组件开箱即用的控制能力。我们提供的配置包括TRA促动器、LTA促动器、MFA线性平台、SR50转台、PR50和BGS50转台。
l 便于串接更多模块
l 电源可为Z多5个模块供电
l 通用底板适用于所有CONEX型模块
8742开环控制器
8742是一款4轴开环智能控制器,该产品是紧凑的、低成本的、把控制器和驱动器集成在一起,专门用于New Focus™的开环PicomotorTM产品。
l 智能4轴开环控制
l 紧凑、集成控制器和驱动器设计
l PicomotorTM自动检测的革新技术
l 即插即用USB2.0通信
l 高级10/100以太网连接
l 嵌入式的动态HTTP服务器
l 容易使用的Windows应用,可自动检测设备
8743闭环控制器
8743-CL是一款2轴的闭环智能运动控制器,有两个4脚RJ-22输出接口,和两个25pinD接头,可以分配给编码器。
l 智能2轴闭环控制
l 紧凑、集成控制器和驱动器设计
l PicomotorTM创新的自动检测技术
l 即插即用USB2.0通信接口
l USB2.0 RS-485和先进的10/100Ethernet接口
l 嵌入式动态HTTP服务器
l 自动检测设备使Windows应用变得简单
l 支持Labview和Windows DLL
l Newport运动控制的命令设置
- 答疑:光电子能谱仪器结构与功能特点
在“光电子能谱仪器结构与功能特点”的课程中,小伙伴们随堂提出的问题,在此可以找到答案。希望这些答案能让你更好的学习和使用XPS,同时也别忘了给我们多多转发哟~
1.问:老师,收集电子与电子之间的动能也不一样把?
答:是的,所有不同的KE电子都将进入输入透镜,从而进入分析仪。但是只有选定的KEZ终会到达检测器。
2.问:输入透镜会改变电子的速度吗?
答:是。 分析仪有两种工作模式。在FAT模式(固定分析器能量传输)下,进入输入透镜的检测电子将“减速”(所谓的延迟)。 但是Z终的概念是相同的,只有所选择的特定能量电子Z终将到达检测器。
3.问:透镜巨电子的原理可以再讲讲吗?
答:仪器真空中大部份外形就像是一块甜甜圈形状的导体。 在透镜上施加负电压,从而将收集的电子排斥回透镜的ZX路径或我们希望它们飞行的光路。
4.问:样品不导电时就要进行电子补充来中和吗?导电答:性非常好的样品接地了,就不需要中和吧?
答:是, 半导体或绝缘体必须关双束中和。 否则,就像我们解释的那样,样品上在XPS激发电子(负)离开时会对样品本身累积正电荷,没有双束中和的话XPS结果光谱就会出现峰位移动或峰形状变化。
导电样品可以说是没必要开中和。 但是,如果不确定,建议您启用双光束中和功能,因为它会自动运行。
5.问:测试时添加偏压可以消除电荷吗?效果怎样?原位XPS对于普通样能测吗?可以通气?
答:荷电的原因是由于样品导电性不好, 因此给本身导电性就不好的样本施加偏压不会有“中和”效果. 也没有帮助。 通常,在样品上施加偏压是出于其他目的,例如在UPS中,以使KE = 0的能位出现。
对于XPS,只要可以抽真空,基本上可以测试任何固体样品。
通气的话, 如讲堂中提到XPSdiyi个要求是超高真空。 因此,对于任何XPS系统而言,实际上都是不可能原位通气的。 但是,有一种称为NAPXPS的技术,它允许在分析条件下进行气体反应。 但这是一种不同的技术。
6.问:离子刻蚀的速度大概有多快呢?大概时怎么样一个量级呢?例子里刻蚀60A大概要多久?
答:对于单原子氩离子枪,束能量高达5kV。 它的速度可以高达数百纳米/分钟。
对于氩团簇离子源,对于有机材料刻蚀的效率特别高。 刻蚀速度也可以超过几百纳米/分钟。
7.问:可以在溅射中进行刻蚀深度的表征吗?刻蚀样品时,刻蚀深度可以实时得到吗?怎样知道一个刻蚀过程的深度呢?
答:不可以。XPS系统的基本功能是XPS。 离子溅射源都是附加功能,它可以简单地进行刻蚀。 不可能真正知道被刻蚀的实际深度。 通常,仪器会使用一些标准样品来校准刻蚀速率。 例如,我们可以在Si上使用100nm的SiO2薄膜进行刻蚀深度分析,以了解将氧刻蚀完需要多长时间,就可以知道大约的刻蚀速率。
但是,现实生活中的样品肯定不会总是SiO2。 因此,写论文的一种非常普遍的方法是,会加上一句如“在SiO2上的溅射速率为XXX nm / min”作为参考。
如果Z终真的想知道溅射深度的厚度,那么另一种方法是他们可以在深度分析之后取出样品,然后通过表面轮廓仪(如AFM或Alpha step等)测试刻蚀坑深度。
8、问:请问老师样品台和样品之间的双面胶有什么要求吗?为什么?
答:在大部份的例子中,Z好做用导电性好,黏性适中, 且对超高真空更适合(干净且脱气少)的双面胶。例如双面铜胶就会比碳胶好.
9、问:请问微区XPS需要什么额外配件么?是什么型号的呢?还有就是微区找样的原理和步骤能说明一下么?因为实际找样过程中,十分难找。
答:PHI XPS 定位非常方便,特别是微区。其他设备可能在定位时只使用光学镜头定位,其问题是光学看的一不一定就在X射线或分析器的光路上(特别如果是在百微米以下时)。在PHI设备在扫描聚焦X射线快速成像下,成的像就是从X射线源产生,因此可确保位置百分bai准确,可以参考下图如何在一两分钟完成准确定位。
10、问:想请问老师半导体薄膜和金属薄膜利用ups计算功函时有什么区别?利用谱图计算时候,都要结合右边的费米边计算吗?半导体薄膜是否可以测试出费米边,测不出怎么计算?
答:首先要注意的是样品制备。 在UPS中,当我们要计算功函数或电离势能时,我们知道需要对样本施加偏压,以使KE = 0起始边可以在谱图数据中显示。 当中,金属样品的实验非常简单,因为它们是导体。 同样,对于金属(导体),基本上我们可以预期费米边将处于结合能= 0eV的位置(正确来说导体不存在HOMO或LUMO的概念,但由于以下会讨论和半导体做比较,或者暂时可以想象导体的HOMO / LUMO / Fermi能级都在同一能级)。因此,整个功函数计算可以变得非常简单,(请参见下图)。
但是,对于半导体薄膜,diyi个重要的因素是如何提高样品导电性。 因此,根据我们有关样品制备的网络课程,可以尝试使用压制Mask固定样品或减少薄膜的厚度。 通常根据我们的经验,如果我们能够使样品表面对样品托(地)的表面电阻在kohm范围内(当然要尽可能小)的話,那么该实验就有可能可以成功。 在这种情况下,所有结果取决于谱图的实际结果。 对于半导体,我们需要左侧(KE = 0)和右侧(费米边缘和HOMO)来计算功函数和电离势能(请参见下图)。 如果无法显示边缘之一,则很可能表明您的样品导电性仍然比较差,无法进行此实验。 这时候唯yi可以做的就是回到“通过样品制备来不断提高样品导电性”这一点。
11、 请问对于图谱数据分析价带导带和费米能级位置时,有没有什么标准
为了确定E0(onset),E-fermi,E-HOMO,E-LUMO的位置,Z常见的方法是通过用直线绘制上升和下降边,然后将其交叉点定义为其能位,或者使用中点法,在 费米边定义费米能级。 请参见下面的示例。
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