西努光学将举办2019金相制样研讨会

西努光学创建于2003年，主营工业显微镜及制样设备、镜片测定设备，高速摄像系统、工业内窥镜、机器视觉等工业及科研应用的检测设备及系统集成。西努光学秉承“以光学为核心，为客户提供解决方案”的经验思路，经过17年的努力，成为众多企业、高校科研单位提供各种专业化的光学系统解决方案。

2016年，我们积极引进检测设备的同时导入制样等配套设备以丰富我们实验室平台，以更好的为客户提供现场体验，从微米到纳米满足客户从制样到结果分析的一站式体验服务。

诚挚邀请您参加西努光学2019金相制样研讨会

会议时间：2019年8月22日（周四）

会议主题：金相制样研讨会

会议地点：西努光学苏州会议室

具体地址：苏州工业园区通园路208号苏化科技园7栋102室

日程安排：

演讲人：

 ·  Leo-柳文鹏，标乐ZS应用工程师

2008年毕业于西北工业大学材料学院，获得硕士学位。曾多年就职于英业达集团，负责电子材料的可靠性及失效分析；之后就职于德国双立人公司，担任主管金相工程师，主要负责金属材料金相分析及硬度测试；加入标乐公司后，每年前往美国总部接受金相制备高级课程培训，现担任标乐ZS应用工程师，在汽车、航空航天及电子等行业积累了丰富的经验。

参展设备：

2019第二届振动能源采集技术国际学术会议（简称VEH2019）于2019年7月13-15在上海科技大学举行。

西努光学也参加些次会议，并携iX Cameras高速摄像机亮相。英国iX Cameras高速摄像机应用非常广泛，主要有：科研分析领域、工业制造领域、科学研究领域、汽车测试领域、航空航天领域。

（来源：上海西努光学科技有限公司）

VDA-QMC、西努光学举办第四届VDA19技术清洁度检验培训会圆满成功

2018年12月6日-7日，VDA-QMC联合西努光学举办了为期两天的第四届VDA19技术清洁度检验培训会，共有20位合作伙伴参加了此次培训。

本次培训获得圆满成功，感谢VDA-QMC的张世忠讲师，感谢参加此次培训的合作伙伴！

       西努光学与VDA-QMC（德国汽车工业联合会质量管理ZX）自2017年开始合作举办VDA 19.1技术清洁度培训会，至今已经成功举办五届。2019年12月5日-6日，VDA-QMC联合西努光学举办了为期两天的第六届VDA19.1技术清洁度检验培训会，感谢VDA-QMC的张世忠讲师，感谢参加此次培训的合作伙伴！

（来源：上海西努光学科技有限公司）

西努光学2019山东高校数码显微镜演示巡展活动历经10天圆满结束！

此次巡展设备是奥林巴斯Z 新发布的DSX1000数码显微镜。

DSX1000数码显微镜在成像清晰度、测量准确性、易用性上都具优势，可在新材料的开发和研究分析、产品的质量检查和保障等方面发挥独特作用，因此吸引了众多师生的目光。

（来源：上海西努光学科技有限公司）

西努光学即将参加2019第十六届南京国际教育装备暨科教技术展览会，展位号：368。

时   间：2019年4月11日-13日

地  址：南京市玄武区龙蟠路88号

参展产品：

• 奥林巴斯激光共聚焦显微镜

奥林巴斯OLS5000 3D测量激光共聚焦显微镜采用了高级光学系统，可通过非破坏观察生成高画质的图像进行精确的3D测量、符合ISO标准的表面粗糙度测量等，其准备工作也非常简单且无需对样品进行预先处理。

• 奥林巴斯金相显微镜

奥林巴斯BX53金相显微镜采用了模块化设计，为广泛的材料学和工业应用提供了多样化的解决方案，BX53根据工业和材料学的不同应用，客户组合成反射显微镜、透反射显微镜、红外显微镜、偏光显微镜等，并可搭载温控台满足不同试验要求。

• iX Cameras高速摄像机

iX Cameras i-SPEED 508高速摄像机可通过独特的触摸屏控制器来完成所有操作，也可通过强大的i-SPEED Suite2.0软件进行控制，分秒之间、高速控制、捕捉和分析就在您的掌握之中。

       为了显示材料的真实显微组织，准确的观察、辨别、记录和测量，正确的试样制备过程是必不可少的。试样的制备质量是决定检测结果的关键因素，犹如那句经典的计算机谚语所说：“如果输入的是垃圾，那么输出的也是垃圾。”

      标乐是材料制备和分析领域的ling导者。作为标乐金相制样的dai理商，我们不仅提供齐全的设备和耗材，更有团队为您提供需要的应用知识、技术支持和服务。今天我们为大家带来的是陶瓷金相制备的经验分享：

【陶瓷】

       陶瓷材料特别硬和脆，可能含有孔洞，必须用金刚石切割片切割。如果试样需要热腐蚀，那么试样镶嵌时就必须考虑样品还要从树脂中取出，此时环氧树脂真空填充孔洞可以不考虑。由于陶瓷自身的特点，不需要考虑变形和塑性流变的问题，但制备过程中可能会产生裂纹晶粒破裂的问题。

热压氮化硅组织 (不知名的黏结剂)

(未腐蚀，500X )

       脱落是陶瓷制备的主要问题，因为通常会把脱落当成孔洞。研磨方法采用金属黏结金刚石盘，硬研磨盘或硬抛光布的机械制备方法。SiC砂纸对陶瓷材料几乎无效，因为两者几乎一样硬。因此在所有的制备步骤中，几乎全部使用金刚石。陶瓷材料制备时的载荷比较高，经常超过手工制备的载荷。本篇文章中列出了两种常用的陶瓷制备程序。

MasterPolish 2 悬浮液用于陶瓷Z后的制备步骤，获得的表面光洁度要高于1μm的金刚石抛光。

【陶瓷材料】

方案一：

方案二：

【实用小贴士】

      使用切割片，在尽可能靠近需要制备、需要检查的平面处进行切割，这样除了把可能的损伤量降到Z少外，还能为随后制备提供Z佳的表面。粗磨相当慢，应尽量想办法避免组织结构的损伤。

      制备时候可能需要粗的研磨剂。然而，粗的研磨剂可能导致严重的晶粒脱落，因此在研磨过程中，尽量使用细的研磨剂以减少晶粒脱落现象。

难熔材料组织：铝(基体)，氧化锆(灰色)，硅(白色) (未腐蚀，200x)

Si-SiC 陶瓷 10%草酸电解腐蚀(500X)

（来源：上海西努光学科技有限公司）

西努光学荣获“奥林巴斯152P工业显微镜优秀代理商”殊荣

金相制样的目的是显示样品的真实组织。样品可以是金属、陶瓷、烧结碳化物或者其他固态材料。金相制样是指在试样尺寸较小或者形状不规则导致研磨抛光苦难而进行的镶嵌或夹持来使试样抛磨方便，提高工作效率及实验的准确性的工艺方法。金相制样一般分为冷镶和热镶。

　　金相制样的制备方法：

　　金相制样要经过以下几个步骤：取样、镶嵌、磨光(粗磨和细磨)和抛光。每项操作都必须细心精确，任何阶段的失误都可能影响后面的操作步骤，在甚至不正确的制作可能造成假组织，从而得出错误的结论，因而金相制样设备的好与坏，尤其金相制样质量是决定抛光工序成败的关键。抛光是将制样上磨制产生的磨痕及变形层去掉，使其成为光滑镜面的工序。

　　1）取样

　　金相制样式样的选取应根据研究的目的，取其具有代表性的部位。待确定好部位，就可以把式样截下，式样的尺寸通常采用直径12～15mm，高12～15mm的圆柱体或边长12～15mm的方形式样。取样方法可用手锯、锯床切割或锤击等方法。

　　2）镶嵌

　　如式样尺寸太小，直接用手来磨制困难时，可把式样镶嵌在低熔点合金或塑料中，以便于式样的磨制和抛光。

　　3）磨制

　　切好或镶好的式样在砂轮机上磨平，尖角要倒圆。然后用2﹟、1?﹟和1﹟等粗砂布磨光，再换400.600.800.1000.1200.1500.2000.2500.3000等金相砂纸逐级细磨，一直磨到W10砂纸方可进行粗抛光和细抛光。磨制式样时，每换一次磨制步骤（即每换一号砂纸）时，式样磨制方向应转90°。这样才能看出上次磨痕是否磨去。式样在每一号砂布（纸）上磨制时，要沿一个方向磨，金相制样切忌来回磨削，而且给式样施加的压力要适当。

　　4）抛光

　　细磨的式样还需进行抛光。抛光的目的是去除细磨时遗留下来的细微磨痕而获得光亮的镜面。式样的抛光是在专用的抛光机上进行的，转速一般100～150r/min。抛光时在抛光盘盘面上铺有丝绒等织物，并不断滴注抛光液。抛光液是由àl2O3、Cr2O3或MgO等极细粒度的磨料加水而形成的悬浮液，依靠抛光液中极细的抛光粉末与式样磨面间产生的相对磨削和滚压作用来消除磨痕。抛光时应使式样磨面均匀地压在旋转的抛光盘上，并沿盘的边缘到ZX不断作径向往复运动。除机械抛光方法外，还有电解抛光、化学抛光等其他抛光方法。

　　5）浸蚀

　　经抛光后的式样还必须经过浸蚀后才能在显微镜下进行观察。浸蚀主要是依靠浸蚀剂对金属的溶解或电化学腐蚀过程，使金属式样表面的晶粒与晶界及各组成相之间呈现轻微的凹凸不平，在显微镜下就可以清楚地观察到式样表面，浸蚀时间要适当，一般式样磨面发暗时就可停止。如果浸蚀不足重复浸蚀。浸蚀完毕后立即用清水冲洗，然后用酒精冲洗，用吹风机吹干，金相制样完成即可置于金相显微镜上进行观察。

（来源：上海西努光学科技有限公司）