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理解聚合物多层膜沉积过程
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本文由 美国Gamry电化学 整理汇编
2024-09-11 17:47 1463阅读次数
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应用光波导光模光谱（OWLS）和带阻抗石英晶体微天平（QCM-I），结合QCM-I和OWLS测量结果理解聚合物多层膜沉积过程。
引言
对表面活性膜吸附的理解是比较复杂的。Z有用的实时技术能提供多个片段信息。然而，通过结合不同技术才能获得更为清晰的认知。1 QCM-I测量有关表面膜水合质量和刚性的变化。将这一结果与光学技术如OWLS相结合，则聚合物和相关离子的“干质量”可以从水合质量中区分出来。如此便实现了对正在发生的过程的更为深入的了解，明显减少了歧义。
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理解聚合物多层膜沉积过程- 应用光波导光模光谱（OWLS）和带阻抗石英晶体微天平（QCM-I），结合QCM-I和OWLS测量结果理解聚合物多层膜沉积过程。
引言
对表面活性膜吸附的理解是比较复杂的。Z有用的实时技术能提供多个片段信息。然而，通过结合不同技术才能获得更为清晰的认知。1 QCM-I测量有关表面膜水合质量和刚性的变化。将这一结果与光学技术如OWLS相结合，则聚合物和相关离子的“干质量”可以从水合质量中区分出来。如此便实现了对正在发生的过程的更为深入的了解，明显减少了歧义。[详细]
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2024-09-11 17:47
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- 应用QCM-I监测聚合物多层膜的沉积过程
- 引言
聚合物和纳米颗粒多层膜的静电驱动吸附是通过表面物理和化学转变以生成高度定制且 “智能”、环境敏感界面的一种广泛接受的方法。沉积过程可由QCM-I灵敏地进行监测，来提供多层体系水合质量以及物理结构和刚度的信息1。沉积参数的差异能极大地影响多层结构及其Z终性能。[详细]
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2024-09-28 00:05
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2021-02-18 14:48
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2013-11-07 00:00
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2010-11-22 00:00
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2016-09-21 00:00
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2024-09-28 12:20
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2011-06-03 00:00
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- 理解IR补偿
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2018-08-30 10:00
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- 讨论了应力控制型旋转流变仪的仪器惯量对几种测试结果的影响，旨在提醒使用者重视这一影响因素，从而得到正确的测量结果[详细]
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2018-12-28 10:00
产品样册
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- 理解iR补偿
- 在Gamry听到的一些Z常见的技术问题都与iR补偿有关–
未补偿的iR是哪来的？
我需要在我的实验中用iR补偿吗？
我应该如何设置iR补偿参数？
为什么iR补偿在我的系统中不能运行呢？
在这个技术报告中，我们将尝试回答这些问题，让您对iR补偿有一个基本的了解。
背景
一些初级背景信息描述了iR误差大体的情况。后面的内容主要集中于介绍用于测量和修正iR误差的“电流截断”iR补偿方法。正反馈iR补偿有提到，但是没有具体讨论。
该技术报告假定您对电化学工作站操作有一定了解。如果没有，您可以浏览我们的Primer on Potentiostats。有经验的电化学工作站使用者应该跳过初级教程，继续阅读本文。
如果您对电化学阻抗的基本原理有一些了解的话，也有帮助。在我们的网页上有Primer on Electrochemical Impedance可以查阅。请特别注意一下，典型化学过程是如何被映射到电路元件中的。[详细]
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2020-03-24 18:16
课件
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真空干燥箱在聚合物膜开发中的应用- 真空干燥箱在聚合物膜开发中的应用[详细]
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2024-09-28 14:01
实验操作
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2016-09-21 00:00
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2018-10-30 08:47
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- 本文重点讨论阶跃折射率光纤。纤芯和包层都具有恒定的折射率，纤芯高于包层，两个折射率呈阶跃变化。有些光纤采用渐变折射率或其它更复杂的折射率轮廓，比如围绕纤芯生成一个低折射率凹陷区。渐变折射率光纤一般是多模光纤，而后者能实现色散管理的目的。[详细]
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2022-04-22 14:58
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- 采用近红外技术监控艰苦环境下聚合物合成及成型过程
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2024-09-23 21:15
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2013-02-05 00:00
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2012-05-03 00:00
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- ALD 原子层沉积
- ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。[详细]
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2022-07-28 11:42
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