X射线光电子能谱仪的技术指标和用途

X射线光电子能谱仪，为一种表面分析技术，对材料表面元素及其化学状态进行表征为其主要的用途。使用X射线和样品表面相互作用，通过光电效应，对样品表面进行激发，使光电子发射，光电子动能通过能量分析器加以测量。按照B.E=hv-K.E-W.F，从而使激发电子的结合能（B.E)获得。

技术指标

1、A1/Mg双阳极靶 

能量分辨率：0.5eV 

灵敏度：255KCPS, 

使用多通道检测器（MCD）

2、AES: 

分辨率：0.4%, 

电子枪束斑：75nm , 

灵敏度：1Mcps

信噪比：大于70:1 

角分辨：5°～90°. 

3、主真空室：1×10-10 Torr 

4、XPS：0.5eV

研究领域

1、纳米分析化学及纳米发光材料研究

2、有机电致发光材料的表面化学研究

3、在香烟减毒净化上纳米材料的应用研究

4、无机纳米杀菌与kang菌材料和其在饮用水净化上的作用

5、电解水制氧电极材料的研究

6、二氧化钛纳米光催化和在空气和水净化方面的应用

7、汽车尾气净化催化剂新型金属载体的研究

8、纳米药物载体及靶向药物的研究

9、纳米导电陶瓷薄膜材料的研究

10、纳米杂化超硬薄膜材料及摩擦化学的研究

主要用途

XPS：分析固体样品的化学状态以及表面组成，10纳米之内为其取样讯息深度，如下为其功能：

1、线或面上的元素或化学态分布能够通过线扫瞄或面扫瞄得以获得。

2、成像功能

3、能够进行样品的原位处理 AES：

（1）能够进行深度分析，研究高分子材料、摩擦化学、催化剂、微电子材料以及纳米薄膜材料的表面和界面研究均比较合适。

（2）能够进行包含点分析，线分析和面分析样品表面的微区选点分析。

4、表面定性与定量分析。比10微米还要小的空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯能够被获得。

 5、维持小于10空间的的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（团簇离子或氩离子刻蚀方式,角分辨方式）