紫外臭氧清洗机

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。

紫外臭氧清洗机历史

在七十年代中期，紫外光被美国军事电子技术和器件实验室应用来对石英晶片进行照射清洗，取得的效果十分满意，然而在非常长的一段时间内，军事领域为美国紫外光表面清洗技术的主要应用领域，其主要被用于研究性应用。

一直到九十年代初，在日本和美国的民用光电子产品的工业生产过程中，紫外臭氧清洗机先后得到应用，紫外臭氧清洗机被提供给了我国个别外资LCD企业，并且要求这些企业对技术进行保密。在此以后，紫外光表面清洗技术在日本得到迅猛发展，与此同时，紫外光表面改质技术也获得了发展。

在二十世纪末，日本等先进工业国家紫外光表面清洗和改质技术通过信息产业慢慢向着金属、塑料、橡胶等工业生产过程进行拓展。

二十世纪九十年代后期，我国的信息技术和产业发展速度十分惊人，尤其是高速发展的平板显示技术，LCD显示屏从TN级向STN和TFT持续提升，市场上也开始进入新型的OLED显示产品。从这开始，对于制备工艺过程表面质量有着越来越严格的要求，对于紫外光表面清洗技术的优越性的认可也变得越来越广泛，紫外臭氧清洗机的需求量也在持续增加。

与紫外臭氧清洗机历史发展相关文文章：

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。与此同时，还能够将光刻胶去除，使材料表面润湿性得到改善以及对SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等进行清洗。一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段被提供，对于一些有机化合物的清除尤为合适。

优势

紫外臭氧清洗机对于扫描探测显微镜的样品应用十分广泛，该设备能够用来对原子力显微镜探针,扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料进行清洗，同时也可以用来对物体表面的疏水性加以改变，对于部件和表面的化学改性十分有利，在扫描过程中，通过氧化和硬化处理的探针对探针的几何形状的保持十分有帮助，削尖的探针对于侧向分辨率的帮助十分的有利。臭氧清洗机设备已经在纳米技术化学,生物学,光学,电子学,半导体和其他范围内的科学实验室得到普遍应用。

特性:

1、全面UV保护使设备能够更加安全地进行操作。

2、设备无论是采购的成本还是操作的成本均要更加低廉。

3、定时器可以更加精确地进行控制。利用门关闭来对灯和定时器进行触发。

4、臭氧排气护置:

臭氧护置安放在生产线或者与过程相关设备旁边被允许。如此会减少材料的再污染。在护置的后面内置一个3英寸排气出口，能够和紫外臭氧清洗机的排气系统相连接，排气风扇没有被提供。

5、灯泡工作方式为间歇式。通过关闭门来触发灯和定时器

6、耐用以及坚固，结构材质全部为不锈钢。

7、寿命较长。压石英水银蒸汽灯将254纳米和85纳米UV发射出来，使快速氧化得到促进，将微量的有机残留物去除。

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• 紫外臭氧清洗机基本原理

紫外光表面清洗技术在国际上是随着光电子信息产业的发展而提出来的。紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机是一款小型紫外臭氧清洗设备,可用于清洗各种单晶基片,以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。

对比

尽管有多种表面清洗和制程方法被提供进行选择，然而，相比于其它方法而言，紫外臭氧清洗有着明显的优势。传统的清洗方法包括干法清洗和湿法清洗两种方式。

相较于湿法清洗，不会有有害的废水产生。湿式清洗需要对化学废水进行处理。紫外臭氧处理相比于湿式清洗为一个完全干燥的过程。并且臭氧清除装置会被配备于紫外臭氧清洗机内，废气臭氧会在系统内进行分解，不会导致清洁室内会有过高的臭氧含量从而使得危害产生。紫外臭氧清洗机也能够被配置成连续加载的清洗线，并且能够耦合DI水冲洗系统，将表面的颗粒彻底清除掉。

相较于干法清洗，基板充电有着较小的损伤。在等离子体处理中，一个严重的挑战为离子轰击引起的充电损伤。其会造成器件的电气特性退化。表面处理为紫外臭氧处理所提供，氧自由基被使用，没有等离子体放电，其对于等离子体蚀刻的替代十分经济有效，由于任何特殊的真空室、气体或特殊设备其均不需要，因此其对于等离子体蚀刻的替代十分经济有效。

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• 紫外臭氧清洗机影响因素和作用

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。与此同时，还能够将光刻胶去除，使材料表面润湿性得到改善以及对SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等进行清洗。一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段被提供，对于一些有机化合物的清除尤为合适。

紫外光清洗技术的应用

光清洗技术有着非常广泛地应用范围，光清洗技术在现代信息技术行业中也得到了十分普遍的应用。光清洗和光改质技术随着我国工业现代化的发展还会慢慢地在金属、塑料、橡胶等工业生产领域得到非常广泛地应用。

1、在敷铜箔层压板生产中，通过光照改质，不但使得表面洁净并且有一层非常均匀的保护氧化层在表面产生，显著地提高了产品的质量。

2、通过紫外光清洗后的光学玻璃，能够进行更好质量的镀膜。

3、树脂透镜光照后，可以使其与防反射板的粘贴性得以加强。

4、光清洗作为导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物的去除方法，带有氧化膜的金属表面处理方法以及石蜡、松香、油脂、人体体油、残余的光刻胶、环氧树脂、焊剂的清除方法均非常有效。

5、石英晶体振荡器生产中，将晶体检测后涂层上的墨迹去除，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗能够使镀膜质量和产品性能得到提高。

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• 紫外臭氧清洗机应用

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。与此同时，还能够将光刻胶去除，使材料表面润湿性得到改善以及对SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等进行清洗。一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段被提供，对于一些有机化合物的清除尤为合适。

紫外臭氧清洗机的维护保养

1、在干燥通风平稳的位置安放紫外臭氧清洗机。

2、在对紫外臭氧清洗机使用的过程，需要特别留心，不要对产品进行随意地挪动或者不能够将紫外臭氧清洗机的上盖打开，从而防止导致溢水的情况发生。

3、在对紫外臭氧清洗机使用结束以后，为了防止机器内部有一位产生或者有细菌滋生，需要对其进行及时地清洁。通常的清洁剂即能够使用。

4、应当保持紫外臭氧清洗机洁净与干燥，尤其值得注意的是预防回水。对紫外臭氧清洗机的电压电流是否正常进行定期的检查。

5、对于工具的检查与保养大概一周会有一次，往轴承等转动部位添加黄油，往气动马达部位添加机油。

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• 紫外臭氧清洗机的维护和应用