紫外臭氧清洗机基本原理

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。与此同时，还能够将光刻胶去除，使材料表面润湿性得到改善以及对SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等进行清洗。一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段被提供，对于一些有机化合物的清除尤为合适。

紫外臭氧清洗机基本原理

有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。波长为185纳米以及254纳米的光波通过UV光源进行发射，具有的能量相当高，当这些光子在被清洗物体表面发生作用时，因为大部分碳氢化合物对于185纳米波长的紫外光所具有的吸收能力比较强，并且在对185纳米波长的紫外光的能量吸收以后使得离子、游离态原子、受激分子和中子被分解出来，此即为所说的光敏作用。空气中的氧气分子在对185纳米波长的紫外光进行吸收以后也会有臭氧和原子氧产生。臭氧对254纳米波长的紫外光的吸收作用液同样非常强烈。臭氧被分解成氧气以及原子氧，其中原子氧是非常活泼的，物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物在其作用下能够被化合成可挥发的气体。从表面逸出水蒸气以及二氧化碳等，从而使得黏附在物体表面上的碳和有机污染物被彻底清除了

在清洗时基板治湿性向上，通过滚轮方式输玻璃基板，低压水银灯在上方装置，使得紫外线照射产生。玻璃基板所累积紫外线有着越多的能量，其表面水就会有越小的接触，成逆向关系。