日本Samco紫外臭氧清洗机 UV-1
日本Samco紫外臭氧清洗机 UV-300H
日本 SEN UV 清洗灯SUV，EUV 系列
美国Jelight紫外光 加臭氧清洗机 Jelight 42, 144AX，342，256，288A
PM11020紫外UV清洗机
紫外线臭氧清洗机 UV-300H，200 - 300 nm/min的高灰化率
概要
UV-300H是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的独特组合，可温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、SiC、GaAs、InP）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。
主要特点和优点
最 大加工尺寸为ø300mm（ø12英寸）。
200 - 300 nm/min的高灰化率。
加热阶段加快了清洗速度，实现了宽广的工艺温度范围。
通过调整平台和石英扩散板之间的间隙，可以提高基板的均匀性。
紧凑，使用最小的洁净室空间
简单，在大气压下操作--不需要真空系统。
柔软、完全干燥的工艺不会对基材造成电损伤。
抽屉联锁保证了当抽屉打开时系统无法工作。
内置臭氧催化剂装置，可将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。
应用
塑料包装和引线框架的表面清洁。
复合半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)的表面清洗。
表面改性（润湿性和附着力的改善
表面氧化(薄氧化层沉积)
光阻剂的灰化、剥离和除尘。
清除有机污染物
紫外线固化
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
SAMCO
营业执照已审核
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