SYSKEY紧凑式溅射系统 Compact Sputter
SYSKEY紧凑式热蒸发镀膜系统 Compact Thermal
SYSKEY 高真空溅射系统 HV Sputter
Syskey 高真空电子束镀膜系统 HV E-beam
Syskey Lift-off E-beam 电子束蒸发镀膜系统
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter
占地面积紧凑的溅射系统,可放置在1平方米以内的区域。尽管设计紧凑,其主要功能与我们标准的高 真空溅射系统几乎相同。全自动操作和配方运行模式可支持最 基础的应用。

配置与优势:
- 灵活的基板尺寸,最 大可达6英寸
- 基板架加热温度最 高可达500℃
- 出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
- 最 多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个)
- 支持射频、直流或脉冲直流电源
- 最 多可支持3条气体管路
- 支持顺序沉积和共沉积
- 可选配负载锁定腔室

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已咨询109次Syskey 台湾
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已咨询271次潮位仪
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。