FTPadv Expert 综合薄膜测量软件
台式薄膜探针反射仪 FTPadv
反射膜厚仪RM 1000/2000
OAI Model 800E 紫外光刻机
德国YXLON高分辨率X射线检测设备Y.Cougar SMT,Y.Cheetah
扩展折射率指数测量极限
我们的反射仪的特点是通过样品的高度和倾斜调整进行精确的单光束反射率测量,光学布局的高光导允许对n和k进行重复测量,对粗糙表面进行测量以及对非常薄的薄膜进行厚度测量。
紫外-近红外光谱范围
RM 1000 430 nm – 930 nm
RM 2000 200 nm – 930 nm
高分辨率自动扫描
反射仪RM 1000和RM 2000可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。
反射膜厚仪RM 1000和RM 2000测量具有光滑或粗糙表面的平坦或弯曲样品的反射率。利用SENTECH FTPadv Expert软件计算单层或层叠膜的厚度、消光系数和折射率指数。在紫外-可见光- 近红外光谱范围内,可以分析5nm~50μm厚度的单层膜、层叠膜和基片。
RM 1000和RM 2000代表高端SENTECH反射仪。台式装置包括高度稳定的光源、具有自动准直透镜和显微镜的反射光学部件、高度和倾斜可调的样品台、光谱光度计和电源。它可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。
除了膜厚和光学常数之外,我们的反射仪还可以测量薄膜(例如,AlGaN on GaN,SiGe on Si)、防反射涂层(例如,纹理硅太阳能电池上的防反射涂层、紫外敏感GaN器件上的防反射涂层),以及小型医用支架上的防反射涂层。该反射仪支持在微电子、微系统技术、光电子、玻璃涂层、平板技术、生命科学、生物技术等领域的应用。

报价:面议
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。