TFMS-IV系列紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。1、光学薄膜测量解决方案
2、非接触、非破坏测量
3、覆盖单层到多层薄膜
4、核心算法覆盖薄膜到厚膜
5、配置灵活、支持定制化
6、采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖可见光到近红外范围
7、采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便
8、基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层
9、配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息
| 产品型号 | TFMS-IV系列紧凑型高精度反射膜厚仪 | ||||
| 主要特点 | 1、光学薄膜测量解决方案 2、非接触、非破坏测量 3、覆盖单层到多层薄膜 4、核心算法覆盖薄膜到厚膜 5、配置灵活、支持定制化 6、采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖可见光到近红外范围 7、采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便 8、基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层 9、配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息 | ||||
| 技术参数 | 型号 | TFMS-IV | TFMS-IV（可选） | ||
| 基本功能 | 获取薄膜厚度值以及R、N/K（可选）等光谱 | ||||
| 光谱波长范围 | 380-800nm | 650-1100nm（可选） | |||
| 测量厚度范围 | 50nm-20um | 100nm-200um（可选） | |||
| 测量时间 | <1s | ||||
| 光斑尺寸 | 0.5-3mm | ||||
| 重复精度 | 0.1nm（100nmSiO2/Si） | ||||
| JD精度 | ±1nm or 0.5% | ||||
| 入射角方式 | 垂直入射 | ||||
| 可选配件 | 1 | 温控台 | | ||
| 2 | Mapping扩展模块 | | |||
| 3 | 真空泵 | | |||
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