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UNIPOL-1203化学机械磨抛机

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详细介绍

UNIPOL-1203化学机械磨抛机,适用于CMP平坦化和平滑化工艺技术, 整机研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀,配置自动滴料器和精密磨抛控制仪,全自动触摸屏面板,从加工性能和速度上同时满足晶圆等面型加工的需求。 1、超平不锈钢抛光盘(平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm)。
2、超精旋转轴(托盘端跳小于0.01mm)。
3、设有两个加工工位,可分别进行控制。
4、配有全自动控制触摸屏面板,可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。
5、配置自动滴料器,流量速率可视化调整,自动研磨和抛光。
6、配置GPC-100A精密磨抛控制仪,可调节压力,修整面型,使磨抛更加方便快捷。
7、研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀。

产品名称
UNIPOL-1203化学机械磨抛机
产品型号
UNIPOL-1203
安装条
本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:无
4、工作台:尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:不需要
主要参数
主机部分
1、电源:220V
2、功率:450W
3、磨抛盘转速:10-240rpm
4、磨抛工位:2个
5、摆臂调节档位:1-15档
6、托盘端跳:0.008/250mm
7、不锈钢磨抛盘:φ300mm
8、载样盘:φ105mm
9、修盘环:φ127.5mm
GPC-100A精密磨抛控制仪
1、载样盘直径:Ø103mm
2、载样盘轴向行程:12mm
3、数显表精度:0.001mm
4、载样盘可调加载压力: 0.1kg-2.1kg
5、压力确认仪有效量程:1g-5000g
6、样品装卡方式:真空吸附
7、承载样件尺寸:直径≤103mm、 厚度≤12mm
8、尺寸:外径146mm,高266mm
自动滴料器
SKZD-2滚筒滴料器
1、容积:1.5L
2、流量:0-35ml/min
3、尺寸:170×290×350mm;
重量:3kg
SKZD-4自动滴料器
1、加液泵:4个
2、料液瓶:600ml/瓶
3、计时范围:1-999min
4、流量:0.1ml/min-10ml/min
5、尺寸:230×370×450mm;
重量:10kg
产品规格

1、外形尺寸:550mm×700mm×420mm
2、重量:74Kg

序号 名称数量图片链接
1铸铁磨盘(Ф300mm花盘)
1个
2不锈钢磨盘(Ф300mm平盘)
1个
3载物盘(陶瓷)1个
4
修盘环(陶瓷)
1个
5

抛光垫

(磨砂革、合成革、聚氨酯)

各1片

6磁力片(带背胶)
2片

7研抛底片
2片

8

刚玉研磨微粉

0.5kg

9石蜡棒
4根

10
二氧化硅悬浮抛光液 2040 W0.05
1瓶

序号
 
名称
 
功能类别
 
图片链接
 
1YJXZ-12搅拌循环泵
 
(可选)
 

 
2精密测厚仪
 
(可选)
 

 
3陶瓷研磨盘
 
(可选)
 

 
4玻璃研磨盘
 
(可选)
 

 
5磁性树脂金刚石研磨片
 
(可选)
 

 
产品优势
1、超平不锈钢抛光盘(平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm)。
2、超精旋转轴(托盘端跳小于0.01mm)。
3、设有两个加工工位,可分别进行控制。
4、配有全自动控制触摸屏面板,可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。
5、配置自动滴料器,流量速率可视化调整,自动研磨和抛光。
6、配置GPC-100A精密磨抛控制仪,可调节压力,修整面型,使磨抛更加方便快捷。
7、研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀。
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