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UNIPOL-1220S型自动研磨工作站
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: UNIPOL-1220S
- 产地:沈阳
- 供应商报价: 面议
- 沈阳科晶自动化设备有限公司 更新时间:2024-04-26 08:08:29
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企业性质生产商
入驻年限第10年
营业执照已审核
- 同类产品全自动磨抛系统(5件)
联系方式:吴女士024-23826163
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- 详细介绍
UNIPOL-1220S型自动研磨工作站,包含自动研磨抛光以及清洗单元,可以实现从研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程,通过触摸屏操作可精确控制和设置磨抛、清洗的所有参数,参数可以存档,研磨抛光过程中可以自动更换研磨砂纸或抛光垫,一键启动程序,从而实现样品自动化操作的一致性。适用于金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。
1、全自动研磨拋光+清洗一次完成,节省人力
2、研磨盘片用真空吸附在下盘,研磨时,研磨盘下盘转速可任意调整。
3、研磨抛光过程中可自动更换不同粒度的研磨砂纸和抛光垫,可储存16组。
4、采用机械加压方式,且压力可调整,根据样品不同材质,任意调整所需压力,最大30kg。
5、配备3组蠕动泵进磨料,搭配使用,灵活性高。
6、整机外壳钢板烤漆,耐用安全性高,并带有防尘罩。
7、方便的触控式人机操作界面,具备可编程的软件系统。
8、包含多种材料数据库,可满足对金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。
9、通过超声实现对样品进行清洗,确保下一道工序不会被上一道工序残留物污染。产品名称 UNIPOL-1220S型自动研磨工作站
产品型号 UNIPOL-1220S
主要参数 1、研磨抛光单元
-上盘直径:φ160mm
-上盘转速:20-350rpm
-加载压力上限:30kg
-下研磨盘直径:300mm
-下研磨盘转速:20-378rpm
-下研磨盘采用真空吸附方式
-防水圈可升降2、清洗单元
-清洗方式:超声波+清水冲洗
-设置有水位检测开关。
-设置有电磁阀切换进水、排水。3、储料单元
-通过程序设置自动更换研磨砂纸和抛光垫
-最多可储存16组φ300mm磨片和抛光片,更换顺序可设定
-通过真空吸附固定在研磨抛光盘上
-通过程序可设置研磨/抛光时间和次数
-采用电动升降进给方式。4、研磨抛光液配备
-用蠕动泵驱动滴料系统。-标配3组滴料器,最多选配6组滴料器。-自动检测滴料瓶是否缺液。5、外形尺寸
长x宽x高 1600×1002×1688mm
- 产品优势
- UNIPOL-1220S型自动研磨工作站,包含自动研磨抛光以及清洗单元,可以实现从研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程,通过触摸屏操作可精确控制和设置磨抛、清洗的所有参数,参数可以存档,研磨抛光过程中可以自动更换研磨砂纸或抛光垫,一键启动程序,从而实现样品自动化操作的一致性。适用于金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。