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仪器网>产品中心> 沈阳科晶自动化设备有限公司>研磨抛光机>UNIPOL-1220M型全自动金相磨抛系统

UNIPOL-1220M型全自动金相磨抛系统

面议 (具体成交价以合同协议为准)
沈阳科晶 UNIPOL-1220M 辽宁 沈阳 2025-12-18 08:06:12
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产品特点:

包含定位载料盘、研磨抛光单元、清洗单元以及供料单元,可以实现从取样-研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程,通过触摸屏操作可精确控制镶嵌到磨抛、清洗的所有参数,并能进行参数设定存档,并可一键启动

产品详情:

产品简介

UNIPOL-1220M型全自动金相磨抛系统,包含定位载料盘、研磨抛光单元、清洗单元以及供料单元,可以实现从取样-研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程,通过触摸屏操作可精确控制镶嵌到磨抛、清洗的所有参数,并能进行参数设定存档,并可一键启动程序,从而实现样品自动化操作的一致性。且可选配自动镶嵌机进行联动、实现镶嵌、磨抛、清洗全自动化流程,适用于金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验,以及需要大批量制样的材料研究行业工作者。

主要特点

  • 全自动取样+研磨拋光+清洗一次完成,节省人力。至多同时完成6个试样。

  • 自动抓取样品进行研磨拋光。过程中可自动更换不同粒度的研磨砂纸和抛光垫。

  • 研磨时,气动单点加压样品,施力平均。

  • 研磨时,研磨盘上盘和下盘转速可任意调整,具有低转速高扭力的特点,方便使用。

  • 气压压力通过节流阀控制和调整,根据样品不同材质,任意调整所需压力。

  • 配备多组滴料装置,搭配使用,灵活性高。

  • 整机外壳钢板烤漆,耐用安全性高。

  • 方便的触控式人机操作界面,具备可编程的软件系统及程序储存。

  • 包含多种材料数据库,可满足对金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。

  • 通过超声和风干模块实现对样品进行清洗,确保下一道工序不会被上一道工序残留物污染。

技术参数

产品名称

UNIPOL-1220M型全自动金相磨抛系统

产品规格

UNIPOL-1220M

主要参数

1、样品直径:Φ25mm

2、磨盘直径:Φ300mm

3、一次加工样品数量:6个

4、磨抛压力头转速:10-60rpm

5、样品磨抛压力:10-50N(单个样品)

6、磨抛盘转速:50-300rpm

7、磨抛片库量:16个

8、磨料供给种类:4组

9、清洗方式:超声波清洗

10、外形尺寸:1650*800*1750

使用环境

1、水源:清洁水源,水压0.3-0.4MPa

2、气源:清洁气源,气压≥0.7MPa,过滤精度5微米

3、通风装置:良好的通风环境


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