PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD
PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD
PICOSUN 原子沉积机 P-300F ,P-300BV
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD
PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300F Pro ALD
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300BV Pro ALD
技术参数
。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距)
。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)
。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)
工艺温度： 50 - 300 °C
基片传送选件：
。 P-300F Pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现。
。P-300BV Pro: 52片晶圆盒对盒式全自动装载，用真空批量load lock实现
标准 。 P-300F Pro: SEMI S2 认证
。P-300BV Pro: SEMI S2 认证（认证中）
前驱体 ：
。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器, 并提供清洗和装源服务
。6根独立源管线，最多加载8个前驱体源
重量： 820 kg
尺寸 ：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
选件： 集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准： 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺，
其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如
- 不均匀性
- 颗粒物含量
- 重金属污染
- 电学性能
报价：面议
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
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沪公网安备 31011502008050号