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PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD，基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）,200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）

PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD ，最 大300mm晶圆/单片，25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 30...

PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300F Pro ALD PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300BV Pro ALD 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 ...

PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD ，由两台PICOSUN P-200S ALD设备组成，带等离子体源PICOPLASMA。

ICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机技术参数：衬底尺寸和类型 。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背） 。高

ICOSUN P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机衬底尺寸和类型：   。156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背）&n

液态，固态，气态，臭氧源； 前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务； ​4根独立源管线，zui多加载6个前驱体源。

PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极 佳的均匀性，包括zui具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。

。气动升降（手动装载） 。预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ） 。半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现

ICOSUN P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机 技术参数衬底尺寸和类型：  。50 – 200 mm /单片  。156 mm x 156 mm

ICOSUN P-300F Pro ALDPICOSUN P-300BV Pro ALD技术参数 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距)

半自动装载，用单片Load lock与磁力操纵杆实现； 25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现。