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GIA 522气泡分析系统，用于分析玻璃、陶瓷、矿物或小型密封电子元件中的小到极小气泡夹杂物。

EDA 407 专为光电子器件的质量控制而设计 ■ 从密封封装中进行精确气体分析 ■ 气体成分的直观分析 ■ 简明易用的软件套件 ■ 全自动化的气体进样系统

日本Samco紫外臭氧清洗机 UV-1, 是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热独特地结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、GaAs、InP、SiC

紫外线臭氧清洗机 UV-300H，200 - 300 nm/min的高灰化率,是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的独特组合，可温和而

盒式装载紫外线臭氧清洗设备 UV-300HC双盒式生产系统，是一款高性能的盒式装载UV臭氧清洗机，用于生产。这个行业领先的系统有2个装载盒，可以达到200-300nm/min的高灰化率。该系统利用紫外

Appsilon MPCVD

. 在垂直入射角的无接触、光学反射测量，表征薄膜和大块材料 .光谱范围从200到1000 nm . 功能强大的、独特的分析软件包FTPadv Expert . 高稳定的氘灯和卤素钨灯光源 . ...

德国Eberl的多波束电子束OCTOPLUS 1000系统，专为最大12英寸SiGe外延生长设计，适用于MBE（分子束外延）工艺。该系统提供高效、高精度的沉积技术，确保高质量薄膜的生长，广泛应用于半导

自动进样稀释模块ASDM专为ICP自动进样器设计，支持2至1000倍的样品溶液稀释，配备两种型号以适应不同溶液类型。该模块可自动添加标准溶液，并能同时清洗稀释探头及准备下一个稀释样品。ASDM提供10

ASAS II自动化标准添加系统通过自动制备校准标准溶液，提升了电感耦合等离子体（ICP）分析的效率与精度。该系统采用非接触式光流传感器和高精度注射泵，实现微量标准溶液的精准添加。其无阀门设计及全氟聚

气体电离探测器（GED）是一种用于测量气体中金属颗粒浓度的技术，尤其适用于半导体行业中特殊气体的分析。该系统通过一个高效的膜来交换气体，使得样品气体中的金属颗粒能在无需预处理的情况下直接引入到电感耦合

化学分析实验室采用连续化学采样检测系统（CSI）监测半导体工艺中的化学品，以检测微量金属杂质。该系统使用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）进行24/7的连续监测，确保化学品在运输和更换过滤器过程中

CSI 连续化学品检测系统：化学敏感仪器监测半导体晶圆厂使用的化学物质，通过连续化学采样检测（CSI）系统监测微量金属杂质，以避免器件故障。系统采用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）对化学品进行2

MSAG金属标准气雾剂生成系统，是一种用于纳米颗粒分析及直接气体分析的重要工具，尤其适用于电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）。该设备能够以0至3μL/min的速度将混合金属标准溶液引入雾化器，确保

LAGM激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统采用飞秒激光和电流计镜，可精确烧蚀 300 毫米晶圆样品，无需小型封闭腔室。系统配备双注射器模型 MSAG_DS，支持标准加入法进行定量分析，具备点和面倾斜度、轮

硅片金属杂质分析系统 Expert,全自动汽车扫描系统与真空二次离子质谱法（VPD-ICP-MS）结合，为硅片金属杂质分析提供了高效的解决方案。系统具备多个型号，包括适用于实验室和工厂自动化的Expe