PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD
PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD
PICOSUN 原子沉积机 P-300F ,P-300BV
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD
PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD
技术参数
衬底尺寸和类型：
。50 – 200 mm /单片
。156 mm x 156 mm 太阳能硅片
。150 mm x 150 mm 显示面板
工艺温度： 50 - 500 °C , 可选更高温度
基片传送选件 ：
。气动升降（手动装载）
。半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现
。25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现
标准： SEMI S2 认证（认证中）
前驱体：
。 液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体（最多4路气体）：
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）
重量 ：790 kg
尺寸 ：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
可选件 ：集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准 ：。标准设备验收标准为 Al2O3 工艺，
。其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如：
- 不均匀性
- 颗粒物含量
- 重金属污染
- 电学性能
一个PICOPLATFORM™ 200真空集群系统由两台PICOSUN™ P-200S ALD设备组成，带等离子体源PICOPLASMA™。
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
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沪公网安备 31011502008050号