德国ThetaMetrisis FR-ES精简薄膜厚度测量特性分析系统
FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Mini 膜厚测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪
德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
连续化学品样品检测实验室 CSI_Lab
化学分析实验室在实验室中监测半导体工艺中的化学物质

连续化学采样检测(CSI)是一个用于监测半导体行业中使用的化学品中微量金属杂质的系统。
在半导体器件制造中,许多不同类型的化学物质被用于不同的目的,而化学物质中的金属杂质会导致器件故障。
由于单片晶圆加工越来越普及,清洗和蚀刻过程中的交叉污染风险越来越小。相反,散装化学品的污染会造成巨大的生产损失。散装化学品的污染可能发生在将化学品从卡车或罐转移到储罐的过程中,或者在更换过滤器之后。
为避免化学品中的任何污染风险,化学源检测公司(CSI)已使用一台电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)对不同储罐中的金属杂质进行 24/7 的连续监测。当有卡车到来时,会立即对卡车上的样本进行分析,紧接着对当前样本进行分析。

◆在线接口软件(OIS) - OIS 是一款智能软件,用于控制每个阀、自动进样器和电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)。ICP-MS 用作检测器,包括校准曲线在内的所有信息均由 OIS 管理。
OIS 具有以下功能
通过简化的标准加入法进行自动校准和重新校准。
- 检查校准曲线的相关系数、最小灵敏度、标准偏差(SD)和相对标准偏差(RSD),以及如果结果超出限值时的自动重新分析功能。
定期检查质量控制标准(QC)。
- 两个浓度上限,以及警报和输出信号的产生。
在当前样本之后插入卡车或罐式样本。
- 针对每种化学物质更改电感耦合等离子体质谱法(取决于电感耦合等离子体质谱仪型号)。
每个样本的浓度和计数的趋势图。
- 离线样本分析
- 与远程接口的通信(可选)


以下是通过 LT 模型分析的各种化学品的标准添加校准曲线。所有化学品均依次进行分析。



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已咨询101次非标装置
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。