德国ThetaMetrisis FR-ES精简薄膜厚度测量特性分析系统
FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Mini 膜厚测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪
德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Pro 系列 膜厚测量仪，Build2Order 电影角色化工具
用于表征1nm-3mm厚度范围内的 涂层的模块化和可扩展平台。FR-pRo 工具是为满足用户对各种不同无损表征应用的需求而量身定制的，例如：薄膜厚度、折射率、颜色、透射率、反射率、温度或环境受控环境或液体环境中的薄膜表征等等......
FR-pRo 工具由用户选择的模块组装而成。核心单元容纳光源、光谱仪（适用于190nm-2500nm范围内的任何光谱范围）以及控制和通信电子设备。该工具附带一组参考样品（Si 参考、SiO2/Si， Si3/N4/硅2/Si） 的 S然后，有各种各样的配件，例如：
。用于反射率测量的薄膜厚度套件，
。FR-Mic 用于非常小区域的测量，
。手动和电动舞台，
。用于吸光度/透射率和化学浓度测量的胶片/比色皿支架，
。用于在受控温度或液体环境中进行测量的热敏或液体套件
。用于漫反射和总反射的积分球
通过不同模块的组合，最 终设置满足任何最 终用户的需求
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已咨询83次德国ThetaMetrisis膜厚测量仪
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已咨询281次Thetametrisis膜厚仪
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已咨询1143次薄膜测厚仪
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已咨询1554次扫描探针显微镜SPM (原子力显微镜）
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
希腊ThetaMetrisis
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