德国ThetaMetrisis FR-ES精简薄膜厚度测量特性分析系统
FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Mini 膜厚测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪
德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速精 准薄膜厚度测绘
FR-Scanner 是一款紧凑的台式测量工具，全自动测绘涂层的厚度，基底适用于晶圆，掩膜版及其它材料。FR-Scanner 可以快速和准确地测量薄膜特性，比如厚度，折射系数，均匀性，色度等，真空吸盘可应用于任何直径或其它形状的样品。
FR-Scanner 通过旋转晶圆片和以无与伦比的速度和精度(半径和角度)线性移动晶圆片进行扫描整个晶圆片，通过这种方式，可以记录具有高重复性的精确反射率数据，使FR-Scanner成为at-line及on-line测绘晶圆上的涂层或其他基片上涂层的理想工具。
FR-Scanner提供了广泛的应用配置，薄膜薄到几纳米，厚到几百微米，并配置专用的软件用于日常使用。FR-Scanner在准确性、精度、再现性和长期稳定性方面都提供了出色的性能。
Applications应用
。 半导体生产制造：(photoresists, dielectrics,poly- Si, a-Si, DLC,photonic multilayerstructures)
。 PV Industry光伏产业
。 Univ. & Research labs 大学，研究所，实验室
。 Liquid Crystal Display 液晶显示
。 Optical Coatings 光学薄膜
。 Polymers 聚合物
。 MEMS and MOEMS 微机电和微光机电
。 基底: 透明和半透明 transparent (glass, quartz, etc.) and semi transparent
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
希腊ThetaMetrisis
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