德国ThetaMetrisis FR-ES精简薄膜厚度测量特性分析系统
FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Mini 膜厚测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪
德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-ES:精简薄膜厚度测量特性分析系统
FR-ES 是一款轻巧便捷的膜厚测量分析系统, 能测量各种厚度范围的透明和半透明涂层以及薄金属层.
FR-ES 是 实验室里 的 理想 配置。FR-ES 可以在各种光谱范围内执行反射率和透射率测量。
FR-ES 机型设计在以较小的占地面积提供卓 越的涂层表征性能。它广泛应用于各种不同的测量应用：薄膜厚度、折射率、颜色、透射率、反射率等等。
有下列波长范围 FR-ES 配置可用:
可风光/近红外 VIS/NIR (380-1020nm),
紫外可见分光光度计 UV/NIR (200-850nm),
紫外/红外光谱仪 UV/NIR-EXT (200-1000nm),
紫外/线性近红外光谱 UV/NIR-HR (190-1100nm)
N1近红外光谱 NIR-N1 (850-1050nm),
近红外光谱 NIR (900-1700nm).
D VIS/NIR (380-1700nm)
依照不同样品形状尺寸还有各种各样的配件，例如：
。 滤光片可阻挡某些光谱范围内的光
。 FR-Mic 提供微米級別区域进行测量
。 手动载物台, 100x100mm或 200x200mm
。 薄膜/比色皿支架用于吸光度/透射率和化学浓度测量的薄膜/比色皿支架
。 积分球用于漫反射和全反射反射率测量
应用
。 大学 & 研究实验室
。 半导体
。 聚合物和光刻膠厚度测量
。 化学测量
。 介電材料膜厚度测量
。 生物医学
。 硬涂层，阳极氧化， 金属零件加工
。光学镀膜
。 非金属薄膜
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
希腊ThetaMetrisis
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