德国 ALLRESIST 紫外光刻胶
德国Allresist 特殊工艺用光刻胶
德国Allresist 电子束光刻胶AR-P 617
德国 ALLRESIST 紫外光刻胶
富士负性PI LTC9000系列光刻胶
富士PI
详细介绍：
| 材料 | 型号 | 具体规格 | 用途 | 使用方法 | 特点 | 厚度范围/um | 分辨率 | 备注 | |
| 负性PI（polyimide） | LTC9000 系列 | LTC 9305 | 作为介电层或缓冲层 | 光刻 | 负胶，低温固化；用于铜衬底工艺 | 4-50 | 4um | 此polyimide需要专用显影液HTD-2和漂洗液RER-600。 | 这些产品为我司比利时工厂生产，运输方式是空运。但由于聚酰亚胺是深度冷藏产品，所以聚酰亚胺和显影液漂洗液需分开运输，也就是说有两张运单。 |
| LTC 9310 | |||||||||
| LTC 9320 | |||||||||
| LTC 9505 | 作为缓冲层 | LTC9500系列用于非铜衬底工艺，两者的固化温度可以到250C。 | |||||||
| LTC 9510 | |||||||||
| LTC 9520 | |||||||||
| 正性PI | FB5610 | 作为介电层或缓冲层 | 光刻， 350度 固化 | 正性聚酰亚胺产品 | 4—8 | ||||
| FB6610 | 光刻, 300度固化 | ||||||||
| 光敏型Polyimide Precursor | Durimide®7500 | Durimide®7505 2-5μm | 光刻 | 2-50 | |||||
| Durimide® 7510 4-15μm | |||||||||
| Durimide® 7520 | |||||||||
| DUR7300 | |||||||||
| 非光敏Polyamic Acid | Durimide® 100系列 | 112A | 终烤参数推荐： ramp from room temperature to 400°C at 3 to 6 °C/min. The temperature will be held at 400°C for 30 minutes. To prevent oxidation of the polyimide film, the oven should then be allowed to cool slowly to below 200°C before parts are removed. | 非光敏；使用传统光刻胶实现图形化 | 1.5-2.5 | 膜厚的4倍 | 非光敏产品的固化温度都很高（350C或400C）,没有低温产品。 | ||
| 115A | 3——5 | ||||||||
| Color Mosaics | SI-5000 | 透红外（IR-PASS）,滤可见光 | 光刻 | ||||||
报价：面议
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报价：￥1
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PMT-2光刻胶激光颗粒计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛帝分析测试集团向水质领域及微纳米检测领域的重要产品。
PMT-2液体颗粒计数仪采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双JZ流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛帝分析测试集团向水质领域及微纳米检测领域的重要产品。
SU-8 2000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。
SU-8 2000是一种高对比度，基于环氧的光致抗蚀剂，设计用于微加工和其他微电子应用，需要厚，化学和热稳定的图像。 SU-8 2000是SU-8的改进配方，多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥，极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。
在线优势：清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线颗粒监测和分析，都是PMT-2微纳米监测仪的经典应用场所，并为生产线上的重要组成部分。在线、实时、连续取样、报警提示，能够即时掌握颗粒污染诊断和趋势。 离线优势：移动测量和固定测量颗粒大小及多少双模式，解决连续跟踪监测的生产过程难题，无论您是即时测量还是清洁跟踪监测，都会为您提供完善的测试方案，让您的测试更加快捷。
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