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Allresist 紫外光刻胶 AR-N 4400

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产品特点

特点:• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等• 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等• 覆盖能力强,分辨率高,图形边缘结构陡直• 化学放大胶,具有非常高的灵敏度• 可得到undercut结构,用于lift-off工艺• 可替代SU8胶 。

详细介绍

特点:

• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等

• 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm)

g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron

• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等

• 覆盖能力强,分辨率高,图形边缘结构陡直

• 化学放大胶,具有非常高的灵敏度

• 可得到undercut结构,用于lift-off工艺

• 可替代SU8胶


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