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MicroChem PMGI & LOR Lift-off光刻胶

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产品特点

PMGI&LOR光刻胶可在数据存储、无线IC和MEMS等各种应用中实现高产量,金属剥离工艺。 在双层光刻胶层使用时,PMGI和LOR将工艺范围扩展到单层光刻胶层所能达到的范围之外,包括高分辨率金属化(< 0.25µm),以及很厚(> 4µm)金属化。这些独特的性能适用于多种材料,可满足客户的各种需要。

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